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推薦產(chǎn)品 / 產(chǎn)品中心

外延片清洗機(jī)-CSE

發(fā)布時(shí)間： 2017 - 12 - 06

在LED外延及芯片制造領(lǐng)域，濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝，隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展，濕法設(shè)備已經(jīng)成為LED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備，如SPM酸清洗、有機(jī)清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側(cè)腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。華林科納（江蘇）CSE深入研究LED生產(chǎn)工藝，現(xiàn)已形成可滿足LED產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目需求的全自動濕法工藝標(biāo)準(zhǔn)成套設(shè)備。 LED 芯片的制造工藝流程為：外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預(yù)清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-外延片清洗機(jī)設(shè)備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波（SAW）器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等專有技術(shù)系統(tǒng)潔凈性技術(shù)均勻性技術(shù)晶圓片N2干燥技術(shù)模塊化系統(tǒng)集成技術(shù)自動傳輸及精確控制技術(shù)溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術(shù)主要技術(shù)特點(diǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊、安全腔體獨(dú)立密封，具有多種功能可實(shí)現(xiàn)晶圓干進(jìn)干出采用工控機(jī)控制，功能強(qiáng)大，操作簡便可根據(jù)用戶要求提供個(gè)性化解決方案設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.hbweixin.com 400-8768-096 ；18915583058更多的外延片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（m.hbweixin.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)清洗設(shè)備解決方案。

旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺-CSE

發(fā)布時(shí)間： 2017 - 12 - 06

旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺結(jié)合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn)，在6＂（150mm）晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部分組成，一為陰極夾具、旋轉(zhuǎn)單元、導(dǎo)線電刷、Ｎ２保護(hù)單元組成的陰極回轉(zhuǎn)體，二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍結(jié)構(gòu)示意圖如下：從鍍制結(jié)構(gòu)方式、鍍制工藝應(yīng)用分析可以看出，采用傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍有以下幾種優(yōu)勢。一是這種結(jié)構(gòu)方式易實(shí)現(xiàn)槽體密封和附加N2 保護(hù)功能。二是在這種鍍制工藝中，陰極的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動使槽內(nèi)電場不均問題得以解決，從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉(zhuǎn)的方式，可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產(chǎn)生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進(jìn)行鍍液噴射，實(shí)現(xiàn)攪拌功能，消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設(shè)計(jì)最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結(jié)構(gòu)方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產(chǎn)需求。傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)、工藝優(yōu)勢斜式三角鍍槽結(jié)構(gòu)本系統(tǒng)采用傾斜式三角形鍍槽結(jié)構(gòu)，鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行，可得到穩(wěn)定且不易積累氣泡的流場環(huán)境。通過進(jìn)行相關(guān)模擬、仿真和驗(yàn)證，鍍液入口采用扇形噴咀式結(jié)構(gòu)，可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩(wěn)定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結(jié)構(gòu)的另一優(yōu)點(diǎn)可使電鍍液的用量減至最少程度。華林科納（江蘇）CSE采用傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍方法進(jìn)行晶圓電鍍工藝處理，由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn)，該方法經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證具有：①結(jié)構(gòu)簡單；②工藝參數(shù)控制容易；③有利氣泡的消除；④鍍制均勻性得到提高；⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應(yīng)于小批量、多規(guī)格的電鍍工藝，同時(shí)可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉(zhuǎn)噴鍍系統(tǒng)，目前已批量生產(chǎn)并在工藝線上得到較好的應(yīng)用，產(chǎn)品已通過技術(shù)定型鑒定和用戶驗(yàn)收。實(shí)現(xiàn)的主要工藝指標(biāo)：最...

雙腔甩干機(jī)

發(fā)布時(shí)間： 2016 - 06 - 22

雙腔甩干機(jī)1. 應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺適用於半導(dǎo)體2”4”6”8”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺，可同Run 50片.l 可對旋乾步驟進(jìn)行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設(shè)備已超過20年以上的應(yīng)用馬達(dá)控制系統(tǒng)設(shè)計(jì), 高穩(wěn)定度Rotor 設(shè)計(jì), 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨(jìng)設(shè)計(jì),微塵控制於每次運(yùn)轉(zhuǎn)增加量, 0.3um , 30顆以下. 2. 操作流程3. 圖示 4. 規(guī)格l 機(jī)臺內(nèi)皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達(dá): DC無刷馬達(dá)750Wl 真空負(fù)壓軸封設(shè)計(jì)，隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(hù)(加熱器空燒保護(hù))l 槽外貼Silicon材質(zhì)加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關(guān)90°C OFF 70°C ON)l Viton材質(zhì)充氣式氣囊及槽後密封環(huán),保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經(jīng)拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉(zhuǎn)子，並按客戶需求指定使用訂做l 轉(zhuǎn)子經(jīng)拋光及電解研磨，並做動態(tài)平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告，氣體不足，傳動異常警告 5. 電控系統(tǒng)l 控制器操作介面: 7”記憶人機(jī)+ PLC可程式自動化控制器(人機(jī) Touch Screen，整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/，皆可從操作螢?zāi)簧闲薷摹?#216; 儲存能力記憶模組...

枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE

發(fā)布時(shí)間： 2016 - 03 - 07

枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE華林科納（江蘇）半導(dǎo)體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長：單片式清洗裝置的優(yōu)點(diǎn)（與浸漬.槽式比較）1.晶片表面的微粒數(shù)非常少（到25nm可對應(yīng)）例：附著粒子數(shù)…10個(gè)/W以下（0.08UM以上粒子）（參考）槽式200個(gè)/W2.藥液純水的消費(fèi)量少藥液…（例）1%DHF的情況 20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size（根據(jù)每個(gè)客戶可以定制）液體濺射（塵埃強(qiáng)制除去）（推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題更多的半導(dǎo)體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設(shè)備相關(guān)信息可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（www.hlkncas.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096；18913575037可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。

自動供酸系統(tǒng)（CDS）-CSE

發(fā)布時(shí)間： 2016 - 03 - 07

自動供酸系統(tǒng)（CDS）-華林科納（江蘇）CSEChemical Dispense System System 華林科納（江蘇）半導(dǎo)體CSE-CDS自動供酸系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送，經(jīng)管道至設(shè)備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點(diǎn)；具有良好的耐腐蝕性能?？刂颇Ｊ剑菏謩涌刂颇Ｊ?、自動控制模式設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-CDS自動供酸系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N1507設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi)：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房；3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材，內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì)；4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn)；5. 過濾器：配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼；6. 供液泵：每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān)；8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能：每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶（自動切換）、配兩臺泵（一用一備）、帶過濾器；系統(tǒng)控制單元：配帶OMRON 8”彩色觸摸屏，OMRON品牌PLC系統(tǒng)；2. 操作模式： CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制，操作介面以流程方式執(zhí)行，兼具自動化與親和力。在...

單片清洗機(jī)CSE

發(fā)布時(shí)間： 2018 - 01 - 23

單片清洗機(jī)-華林科納CSESingle wafer cleaner system華林科納（江蘇）CSE-自動單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗（包括光刻板清洗）刻蝕去膠金屬剝離等；可處理晶圓尺寸2'-12'；可處理晶圓材料：硅砷化鎵磷化銦氮化鎵碳化硅鈮酸鋰鉭酸鋰等；主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路聲表面波器件微波毫米波器件 MEMS 先進(jìn)封裝等設(shè) 備名稱CSE-單片清洗機(jī)類型單片式適用領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等清洗方式2英寸——12英寸設(shè)備穩(wěn)定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量：1L/min/片4、蝕刻均一性良好（SiO?氧化膜被稀釋HF處理）：≤2%5、干燥時(shí)間：≤20S6、藥液回收率：＞95%單片式優(yōu)點(diǎn)1、單片處理時(shí)間短（相較于槽式清洗機(jī)）2、節(jié)約成本（藥液循環(huán)利用，消耗量遠(yuǎn)低于槽式）3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結(jié)構(gòu)，占地面積小更多的單片（枚葉）式清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納（江蘇）半導(dǎo)體官網(wǎng)，關(guān)注http://m.hbweixin.com ,400-8768-096，18913575037

氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-CSE

發(fā)布時(shí)間： 2017 - 12 - 06

氫氟酸HF自動供液系統(tǒng)-華林科納（江蘇）CSEChemical Dispense System System 華林科納（江蘇）半導(dǎo)體CSE-氫氟酸供液系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送，經(jīng)管道至設(shè)備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點(diǎn)；具有良好的耐腐蝕性能。控制模式：手動控制模式、自動控制模式設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-氫氟酸（HF）供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi)：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房；3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材，內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì)；4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn)；5. 過濾器：配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼；6. 供液泵：每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān)；8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能：每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶（自動切換）、配兩臺泵（一用一備）、帶過濾器；系統(tǒng)控制單元：配帶OMRON 8”彩色觸摸屏，OMRON品牌PLC系統(tǒng)；2. 操作模式： CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制，操作介面以流程方式執(zhí)行，兼具自動化...

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半導(dǎo)體行業(yè)最新要聞?lì)^條

時(shí)間: 2016-12-14

點(diǎn)擊次數(shù): 329

1/我國絕緣雙極性晶體管（IGBT）首次出口海外市場

近日，中車株洲電力機(jī)車研究所有限公司(中車株洲所)自主研發(fā)的8英寸IGBT產(chǎn)品，成功中標(biāo)印度機(jī)車市場，將用于該國電力貨運(yùn)重載機(jī)車改造升級項(xiàng)目，這是該產(chǎn)品首次出口海外。

2/看好智能汽車發(fā)展,促成最大半導(dǎo)體收購案誕生

據(jù)《華爾街日報(bào)》稱,高通周四斥資390億美元收購恩智浦半導(dǎo)體公司(NXP Semiconductors NV),這是半導(dǎo)體行業(yè)有史以來最大的收購案,也是整個(gè)科技行業(yè)歷史上第二大交易案

3/兩岸半導(dǎo)體競合大打擦邊球戰(zhàn)術(shù) LCD驅(qū)動IC供應(yīng)鏈轉(zhuǎn)移中

大陸投資半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)幾乎已經(jīng)勢不可擋，清華紫光集團(tuán)原本預(yù)計(jì)投資臺系IC封測大廠的硅品、力成、南茂，但業(yè)界認(rèn)為，基本上隨著臺灣政策將半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)視為具有戰(zhàn)略高度產(chǎn)業(yè)，“以拖待變”戰(zhàn)術(shù)使得紫光集團(tuán)不得其門而入。然而，隨著與大陸競合多空不一的爭論持續(xù)，全球晶圓代工龍頭臺積電仍不改其于南京設(shè)立12吋晶圓廠的計(jì)劃并已經(jīng)進(jìn)行，使得臺灣半導(dǎo)體業(yè)界也深知不與大陸合作，幾乎是逆勢而行。

4/華嶺股份:國內(nèi)集成電路第三方測試龍頭

IC產(chǎn)業(yè)鏈帶動測試服務(wù)需求,獨(dú)立測試企業(yè)應(yīng)運(yùn)而生:IC測試主要是對芯片、電路產(chǎn)品的功能、性能測試,最近幾年IC封裝測試業(yè)依然保持著每年10%左右的穩(wěn)步增長態(tài)勢,IC封測業(yè)仍是集成電路產(chǎn)業(yè)鏈中占比最大的環(huán)節(jié),比重穩(wěn)定在40%左右。同時(shí)IC制造業(yè)和設(shè)計(jì)業(yè)開始呈現(xiàn)高增長態(tài)勢,增速都超過了20%,IC設(shè)計(jì)業(yè)的迅速興旺帶來大量的設(shè)計(jì)驗(yàn)證測試需求,同時(shí)IC制造業(yè)和封裝業(yè)的穩(wěn)步增長也為晶圓測試、芯片測試和成品測試帶來了不容小覷的海量訂單。

5/Synopsys武漢產(chǎn)業(yè)園建設(shè)正式啟動，助力中國集成電路產(chǎn)業(yè)成長

新思科技公司(Synopsys, Inc.)宣布，位于湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)的Synopsys武漢產(chǎn)業(yè)園建設(shè)項(xiàng)目12月12日正式啟動。繼2012年新思科技在武漢設(shè)立全球研發(fā)中心后，此次投建的Synopsys武漢產(chǎn)業(yè)園更具規(guī)模，將借助新思科技強(qiáng)大的全球研發(fā)體系資源，以及以武漢為中心的華中地區(qū)雄厚的電子信息產(chǎn)業(yè)資源和人才體系，為全球市場開發(fā)領(lǐng)先的知識產(chǎn)權(quán)(IP)產(chǎn)品和信息安全軟件，同時(shí)為快速發(fā)展的中國及亞洲地區(qū)的集成電路產(chǎn)業(yè)提供更全面和直接的支持。啟動儀式同期還舉行了“光谷集成電路芯片及IP設(shè)計(jì)高峰論壇”。

6/日本TDK洽購InvenSense

知情人士表示，日本電子零件制造商TDK Corp(6762.T)正在洽購美國芯片制造商InvenSense(INVN.N)，后者為蘋果和三星電子生產(chǎn)運(yùn)動感測器。

7/南宮與京企合作半導(dǎo)體新材料項(xiàng)目試生產(chǎn)

近日，投資2.5億元的稀土銅合金及電子新材料項(xiàng)目在南宮市經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)試生產(chǎn)，這是該市瞄準(zhǔn)京津招商的重要成果之一。

該項(xiàng)目由南宮市雙龍金屬制品公司與北京科陸工貿(mào)公司合作，主要產(chǎn)品為稀土銅合金及電子新材料，是半導(dǎo)體元器件和集成電路封裝的主要原材料，具有導(dǎo)電導(dǎo)熱率高、耐腐蝕、熱穩(wěn)定性強(qiáng)等特點(diǎn)，附加值較高，目前每噸市場價(jià)格在4萬至5萬元。該項(xiàng)目設(shè)計(jì)年產(chǎn)能為15萬噸，滿負(fù)荷運(yùn)轉(zhuǎn)后，年產(chǎn)值可達(dá)60億元，提供就業(yè)崗位200余個(gè)。

8/安森美并購快捷半導(dǎo)體完成，提升日8吋晶圓產(chǎn)能

美國科技大廠安森美半導(dǎo)體(ONSemiconductor)于9月完成購并快捷半導(dǎo)體(FairchildSemiconductor)后，在考量技術(shù)的互補(bǔ)性及集團(tuán)事業(yè)體的整合下，開始進(jìn)行組織重整計(jì)劃，將事業(yè)部門重整為“電源解決方案組(PSG)”、“模擬解決方案組(ASG)”以及“影像傳感器組(ISG)”，目標(biāo)強(qiáng)化不同用途的解決方案。

9/ARM、賽靈思將在新物理IP平臺合作開發(fā)芯片采臺積電7納米

臺積電與三星電子(SamsungElectronics)、英特爾(Intel)及GlobalFoundries競逐7納米制程技術(shù)有成，繼近日對外公布自有首個(gè)全新7納米制程技術(shù)后，ARM(ARM)也最新宣布將與賽靈思(Xilinx)延續(xù)雙方在提供物理IP解決方案加速創(chuàng)新，以及最小化成本及風(fēng)險(xiǎn)的合作關(guān)系，此即ARM將把Artisan物理IP平臺授權(quán)給賽靈思，并采臺積電7納米7FFFinFET制程，預(yù)計(jì)2017年上半將成品出廠驗(yàn)證(tapeout)及送樣部分工程樣品，預(yù)估正式上市時(shí)間落在2018年。

根據(jù)EETimes及Hexus網(wǎng)站報(bào)導(dǎo)，賽靈思為全球主要FPGA芯片制造商，同時(shí)也是臺積電大客戶之一，過往臺積電新制程技術(shù)多率先支援FPGA芯片制造，此次合作也不例外。另外，賽靈思也將以ARMArtisan物理IP平臺開發(fā)下一代All-ProgrammableFPGA、MPSoCs以及3DIC等產(chǎn)品線。

10/期指午后重心回升 IC主力率先翻紅

周二（12月13日）期指早間震蕩走低，午后開盤重心略有上移，IC主力率先翻紅。期指升貼水方面，主力貼水幅度有所收斂。IF1612貼水14.04點(diǎn)，IH1612貼水2.73點(diǎn)，IC1612貼水47.18點(diǎn)。

?更多的半導(dǎo)體行業(yè)信息相關(guān)新聞資訊可以關(guān)注華林科納 CSE官網(wǎng)（m.hbweixin.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。?

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