一、主要生產(chǎn)設(shè)備

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二、工藝流程簡述：

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PVD真空鍍膜生產(chǎn)工藝流程圖

1.五金配件：項(xiàng)目中的五金配件均為客戶提供的已檢驗(yàn)合格的產(chǎn)品，在廠區(qū)內(nèi)進(jìn)行表面鍍膜后加工，不產(chǎn)生生產(chǎn)廢料。

2.人工擦拭：項(xiàng)目的人工擦拭工序?yàn)橛糜诓潦梦褰鹋浼械奈蹪?，污漬可直接用手套擦拭，此環(huán)節(jié)產(chǎn)生的污染物主要為廢手套。

3.烘烤：項(xiàng)目的烘烤工序所使用的烤箱，工作溫度約為200℃，以電為能源，管狀的五金配件中空心的地方由于工人操作失誤，沾染廢機(jī)油后，進(jìn)入烤箱烘烤將廢機(jī)油烤干，干凈的五金配件無需進(jìn)行烘烤，為防止烘箱的溫度太高，需對(duì)其進(jìn)行冷卻，項(xiàng)目采用水冷，冷卻水循環(huán)使用，不外排。

5.真空鍍膜：項(xiàng)目的真空鍍膜工序是指在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材（鈦塊）產(chǎn)生的濺射效應(yīng)，使得靶材原子或分子從固體表面射出，在基片上沉積形成薄膜的過程。在真空設(shè)備中（立式真空爐）通入惰性氣體（氯氣、氮?dú)猓?在兩極加上一定電壓使其電離產(chǎn)生等離子體，靶材表面加上一定的負(fù)偏壓，使得等離子體中的正離子飛速向靶材表面運(yùn)動(dòng)，撞擊靶材表面使其產(chǎn)生濺射效應(yīng)產(chǎn)生靶原子，靶材原子在真空室中自由運(yùn)動(dòng)，于工件表面沉積，從而形成薄膜。鍍膜過程在密閉真空設(shè)備內(nèi)進(jìn)行，鍍膜過程中無氣體排放，在下次鍍膜之前對(duì)濺射腔內(nèi)沉積靶材進(jìn)行清理，清理的靶材回收利用。鍍膜結(jié)束后，用對(duì)設(shè)備進(jìn)行降溫，此時(shí)電源關(guān)閉，靶材不再被蒸發(fā)產(chǎn)生金屬原子。在下次鍍膜之前對(duì)濺射腔內(nèi)沉積靶材進(jìn)行清理，因此開倉時(shí)無金屬原子排放。此環(huán)節(jié)產(chǎn)生的污染物主要為鈦粉末。

6.包裝：對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行包裝、入庫。

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