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各向同性和各向異性：

當(dāng)材料受到液體或蒸汽蝕刻劑的侵蝕時(shí)，它會(huì)被各向同性（在所有方向上均勻）或各向異性蝕刻（在垂直方向上均勻）去除。各向同性蝕刻和各向異性蝕刻之間的區(qū)別如圖 1 所示。濕蝕刻的材料去除速率通常比許多干蝕刻工藝的速率快，并且很容易通過(guò)改變溫度或活性物質(zhì)的濃度來(lái)改變。

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濕蝕刻

同義詞： 化學(xué)蝕刻、液體蝕刻

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定義：

濕蝕刻是一種材料去除工藝，它使用液體化學(xué)品或蝕刻劑從晶片上去除材料。特定的圖案由晶圓上的掩模定義。不受掩模保護(hù)的材料會(huì)被液體化學(xué)品蝕刻掉。在先前的制造步驟中使用光刻在晶片上沉積和圖案化這些掩模。^[2]

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濕法蝕刻工藝涉及消耗原始反應(yīng)物并產(chǎn)生新反應(yīng)物的多個(gè)化學(xué)反應(yīng)。濕蝕刻工藝可以通過(guò)三個(gè)基本步驟來(lái)描述。(1) 液體蝕刻劑擴(kuò)散到要去除的結(jié)構(gòu)。(2)液體蝕刻劑與被蝕刻掉的材料之間的反應(yīng)。通常會(huì)發(fā)生還原氧化（氧化還原）反應(yīng)。該反應(yīng)需要材料的氧化，然后溶解氧化的材料。(3)反應(yīng)中副產(chǎn)物從反應(yīng)表面擴(kuò)散。

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各向異性濕蝕刻?略

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各向同性濕法蝕刻：??略

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干蝕刻：?????略

同義詞：等離子蝕刻、氣體蝕刻、物理干蝕刻、化學(xué)干蝕刻、物理化學(xué)蝕刻

反應(yīng)離子蝕刻：??略

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