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目的

該在線實驗室的目的是演示和概述進行接觸光刻所必需的程序。這些視頻將詳細介紹每一步光刻過程。

背景

光刻是在材料上定義圖案的關(guān)鍵奈米制造。光刻技術(shù)的進步最終導(dǎo)致了我們今天看到的是電子設(shè)備的微型化。光刻是一種半導(dǎo)體制造業(yè)的核心要素;現(xiàn)代設(shè)備可以做到在完成之前，要經(jīng)過幾十次光刻過程。在光刻過程中，一種能量敏感的化學(xué)物質(zhì)，稱為光刻膠涂在樣品表面的。然后把這種光刻膠暴露在特定的能量下在材料內(nèi)部產(chǎn)生圖案的來源。當(dāng)這個過程涉及到光的時候能源，它叫光刻。在光刻中涉及的小特征尺寸要求極其干凈處理環(huán)境;這個實驗室的視頻顯示了光刻的過程在一流的10級潔凈室進行。為了進行光刻工藝，需要各種各樣的設(shè)備。濕工作臺、熱板、旋轉(zhuǎn)鑄造臺和曝光工具都是必要的。的本實驗室使用的曝光工具是Karl Suss MA6BA6。這個系統(tǒng)理論上是可打印特性小至~0.5μm。接觸的關(guān)鍵概念

光刻技術(shù)可分為電子束光刻技術(shù)和步進光刻技術(shù)?？蓪崿F(xiàn)的最小特征尺寸最終由類型決定

采用光刻技術(shù)。

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實驗:在這個練習(xí)中，特征將被畫在晶圓上光刻過程。閱讀下面的步驟并觀看剪輯每個階段的光刻過程，以回答天使的實驗室問題。

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本文還講了實驗的過程，細節(jié)以及結(jié)論等

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