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摘要

雖然聽起來可能不像極紫外 (EUV) 光刻那么吸引人，但濕晶圓清洗技術(shù)可能比 EUV 更重要，以確保成功的前沿節(jié)點(diǎn)、先進(jìn)的半導(dǎo)體器件制造。這是因?yàn)槠骷煽啃院妥罱K產(chǎn)品良率都與晶圓在經(jīng)過數(shù)百個(gè)圖案化、蝕刻、沉積和互連工藝步驟時(shí)的清潔度直接相關(guān)。

晶片上的單個(gè)顆粒就足以導(dǎo)致致命的缺陷或偏移，最終導(dǎo)致設(shè)備故障。當(dāng)今最先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)設(shè)備用于關(guān)鍵應(yīng)用，例如智能汽車、醫(yī)療保健和工業(yè)應(yīng)用。因此，設(shè)備可靠性比以往任何時(shí)候都更加重要。這意味著對(duì)設(shè)備進(jìn)行更嚴(yán)格的分類和裝箱，這會(huì)影響產(chǎn)量。

不幸的是，許多傳統(tǒng)的晶圓清潔方法不僅不足以滿足先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)技術(shù)，而且還會(huì)損壞精細(xì)結(jié)構(gòu)，如 finFET 和硅通孔。因此，選擇正確的濕式晶圓清洗技術(shù)不應(yīng)作為事后的想法，而應(yīng)作為穩(wěn)健制造工藝流程的一部分進(jìn)行仔細(xì)考慮。

考慮到這一點(diǎn)，讓我們看看濕晶圓清洗技術(shù)如何從一門藝術(shù)演變?yōu)橐婚T科學(xué)，以及濕晶圓清洗技術(shù)是如何專門針對(duì)先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的需求而開發(fā)的。

有多少清潔步驟？

45 納米節(jié)點(diǎn)技術(shù)需要大約 150-200 個(gè)獨(dú)立的清潔工藝步驟。10nm 節(jié)點(diǎn)處理使用了該數(shù)字的 3 倍，約 800 個(gè)清潔工藝步驟，包括：

·?光刻膠條

·?蝕刻后條

·?種植體條

·?一般晶圓清洗

·?用于多重圖案化和 EUV 的背面清潔

縮小技術(shù)節(jié)點(diǎn)需要雙重、三重甚至四重圖案光刻工藝。這為整個(gè)工藝流程增加了數(shù)百個(gè)額外步驟，包括額外的清潔步驟。雖然 EUV 的引入減少了工藝步驟的數(shù)量，但現(xiàn)在甚至可以實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的特征，從而增加了對(duì)不會(huì)損壞精細(xì)結(jié)構(gòu)的先進(jìn)晶圓表面制備的需求。

濕法晶圓清洗技術(shù)的發(fā)展???略

濕臺(tái)方法???略

批量噴涂方法?????略

單片濕晶圓清洗???略

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