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摘要

在這項(xiàng)工作中，對(duì)通過(guò)物理氣相沉積生長(zhǎng)的幾種不同薄膜氧化物的濕蝕刻性能進(jìn)行了評(píng)估。MgO、Al2O3、SiO2、TiO2、HfO2、ZrO2和Y2O3被涂覆在兩種類型的基材上；Si 和硼硅玻璃以及蝕刻測(cè)試在不同的蝕刻溶液中進(jìn)行。MgF2 薄膜也已被評(píng)估?？紤]到薄膜選擇的重要方面，以匹配良好的光學(xué)性能，如折射率 (n)、消光系數(shù) (k) 和光學(xué)厚度 (TP) 以及濕蝕刻中的良好化學(xué)性能過(guò)程。描述了濾光片的物理原理以及不同氧化物相互堆疊的組合如何創(chuàng)建干涉濾光片。介紹了使用物理氣相沉積 (PVD) 的薄膜的制造過(guò)程。

研究了由多孔涂層引起的光譜熱位移，并通過(guò)橢圓光度法、表面輪廓法和透射分光光度法對(duì)薄膜進(jìn)行了分析。

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介紹

在某些情況下，需要在光學(xué)涂層和濾光片上制作光刻圖案。這種光刻的用途主要是在照明業(yè)務(wù)中投影圖像。帶有涂層的圖案化設(shè)備還有其他用途，用于光學(xué)儀器和探測(cè)器。制造這些組件的一種方便的方法是對(duì)由光刻膠圖案化的薄膜進(jìn)行濕法蝕刻。在本報(bào)告中，研究了不同的化學(xué)溶液如何蝕刻不同的氧化物。

背景

生產(chǎn)基于 PVD的光學(xué)干涉濾光片。這種濾光片的主要用途是在照明行業(yè)投射圖案。為了進(jìn)行這種光刻，涉及使用光刻膠的濕法蝕刻工藝。

定界

沒(méi)有研究薄膜的形態(tài)。為了制造涂層，僅對(duì)最佳涂層工藝參數(shù)進(jìn)行了估計(jì)。一些有趣的氧化物如 Nb2O5 和 Ta2O5 沒(méi)有被研究。涂層上的所有蝕刻都在沒(méi)有任何光刻膠或完全去除光刻膠的情況下進(jìn)行，以便在整個(gè)表面上進(jìn)行蝕刻以便于測(cè)量。本研究不包括由圖案化引起的蝕刻特性的變化。

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吸收過(guò)濾器

? ? ? 吸收式過(guò)濾器的缺點(diǎn)是不能承受太多熱量。通過(guò)照亮它們，溫度會(huì)升高，這可能會(huì)導(dǎo)致問(wèn)題。它們通常

由有機(jī)染料或混合在易受高溫影響的玻璃中的不同顏色的化合物制成。吸收式過(guò)濾器的主要優(yōu)點(diǎn)是它們非常經(jīng)濟(jì)且易于大批量生產(chǎn)。它們通常是通過(guò)用染料涂覆聚合物（例如聚酯、聚碳酸酯或類似物）基材制成的。

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單層涂層

在這種情況下，重要的光干涉就出現(xiàn)了。為了理解這一點(diǎn)，可以想象最簡(jiǎn)單的過(guò)濾器類型：由兩個(gè)表面組成的單個(gè)涂層，如圖 2 所示。

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多層涂層

通過(guò)添加多個(gè)表面，可以增加過(guò)濾器的功率并實(shí)現(xiàn)非常高的反射率。在大多數(shù)情況下，過(guò)濾器將由 16-30 層交替的高指數(shù)和低指數(shù)材料制成。濾光器不僅會(huì)在設(shè)計(jì)波長(zhǎng)處產(chǎn)生高反射率，還會(huì)在設(shè)計(jì)波長(zhǎng)的偏移處傳輸光，此時(shí)光反射不再彼此同相。

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