?
半導(dǎo)體濕法清洗專家華林科納介紹硅片清洗機(jī)的相關(guān)工藝
1、硅片清洗機(jī)概述
??硅片清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于光伏，電子等行業(yè)硅片清洗；由于硅片在運(yùn)輸過程中會(huì)有所污染，表面潔凈度不是很高，對(duì)即將進(jìn)行的腐蝕與刻蝕產(chǎn)生很大的影響，所以首先要對(duì)硅片表面進(jìn)行一系列的清洗操作。清洗的一般思路首先是去除表面的有機(jī)沾污，然后溶解氧化膜，因?yàn)檠趸瘜邮恰罢次巯葸M(jìn)”，會(huì)引起外延缺陷；再去除顆粒、金屬等，同時(shí)使硅片的表面鈍化。
??目前多采用傳統(tǒng)的RCA清洗方法，不僅可以去除硅片表面的金屬、有機(jī)物等，還可以去除小顆粒等污染物。
2、清洗工藝
??RCA清洗法
??RCA清洗法又稱工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)濕法清洗工藝，是由美國無線電公司(RCA)的Kem和Puotinen等人于20世紀(jì)60年代提出后，由此得名。
??RCA濕法清洗由兩種不同的化學(xué)溶液組成，
??SPM具有很高的金屬氧化能力，可將金屬氧化后溶于清洗液中，并能將有機(jī)物氧化生成二氧化碳和水。用SPM清洗硅片可以去除表面的種有機(jī)沾污和部分金屬，當(dāng)沾污特別嚴(yán)重時(shí)，難以去除干凈。
??DHF（HF），可以去除硅片表面的自然氧化膜，同時(shí)抑制氧化膜的形成。易去除硅表面的Al、Fe、Zn、Ni等金屬，也可以去除自然氧化膜上的氫氧化物。在自然那氧化膜被腐蝕掉時(shí)，硅片幾乎不被腐蝕。
表2.1 基礎(chǔ)的RCA清洗機(jī)配方
??
??SC-1清洗液是能去除顆粒和有機(jī)物質(zhì)的堿性溶液。由于過氧化氫為強(qiáng)氧化劑，能氧化硅片表面和顆粒。顆粒上的氧化層能提供消散機(jī)制，分裂并溶解顆粒，破壞顆粒和硅片表面之間的附著力，而脫離硅表面。過氧化氫的氧化效應(yīng)也在硅片表面形成一個(gè)保護(hù)層，阻止顆粒重新粘附在硅片表面。隨后將硅片放入到10%的HF溶液中浸泡2分鐘，可以將硅片表面自然生成的氧化膜去除并抑制氧化膜再次形成，同時(shí)HF酸還可以將附著在氧化膜上的金屬污染物溶解掉。
??SC-2濕法清洗工藝用于去除硅片表面的金屬。用高氧化能力和低PH值的溶液，才能去除表面的金屬粘污。此時(shí)，金屬被氧化成為離子并溶于酸液中，金屬和有機(jī)物粘污中的電子被清洗液俘獲并氧化。因此電離的金屬溶于溶液中，而有機(jī)雜質(zhì)被分解。這就是RCA清洗方法的機(jī)理。繼續(xù)用HF在室溫下清洗硅片2分鐘，最后用去離子水超聲清洗數(shù)次去除殘留的洗液。
表2.2 RCA清洗機(jī)配方
??
?
更多的硅片清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE網(wǎng)站：
m.hbweixin.com,現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096，可立即獲得免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
?