?一、太陽能電池片工藝流程：

　　制絨(INTEX)---擴散（DIFF）---后清洗（刻邊/去PSG）---鍍減反射膜（PECVD）---絲網(wǎng)、燒結（PRINTER）---測試、分選（TESTER+SORTER）---包裝（PACKING）

　　二、我是做清洗的，今天主要跟大家分享一下清洗的工藝

電池片制造過程中，有哪些步驟用到清洗呢？

1，硅棒硅芯的清洗 ，需要用到硅棒硅芯清洗機

?圖為華林科納硅棒清洗機

2，制絨刻蝕--堿洗--酸洗 ? ? 需要用到制絨腐蝕清洗機

圖為華林科納制絨腐蝕設備

3，長時間擴散后需要對石英管進行清洗 ? 需要石英管清洗機

圖為華林科納石英管清洗機

下面講一講具體的步驟

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　　1.RENA前清洗工序的目的：

　?。?） 去除硅片表面的機械損傷層（來自硅棒切割的物理損傷）

　?。?） 清除表面油污（利用HF）和金屬雜質(zhì)（利用HCl）

　?。?）形成起伏不平的絨面，利用陷光原理，增加對太陽光的吸收，在某種程度上增加了PN結面積，提高短路電流（Isc），最終提高電池光電轉換效率。

　　2、前清洗工藝步驟： 制絨→堿洗 →酸洗→吹干

　　Etch bath：刻蝕槽，用于制絨。 所用溶液為HF+HNO3 ，作用：

　?。?）.去除硅片表面的機械損傷層；

　?。?）.形成無規(guī)則絨面。

Alkaline Rinse：堿洗槽 。 所用溶液為KOH，作用：

　?。?）. 對形成的多孔硅表面進行清洗；

　?。?）.中和前道刻蝕后殘留在硅片表面的酸液。

　　Acidic Rinse：酸洗槽 。 所用溶液為HCl+HF，作用：

　?。?）.中和前道堿洗后殘留在硅片表面的堿液；

　?。?）.HF可去除硅片表面氧化層（SiO2），形成疏水表面，便于吹干；

　　（3）.HCl中的Cl-有攜帶金屬離子的能力，可以用于去除硅片表面金屬離子。

　　3. 酸制絨工藝涉及的反應方程式:

　　HNO3+Si=SiO2+NOx↑+H2O

　　SiO2+ 4HF=SiF4+2H2O

　　SiF4+2HF=H2[SiF6]

　　Si+2KOH+H2O →K2SiO3 +2H2

　　4. 前清洗工序工藝要求

　?。?） 片子表面5S控制

　　不容許用手摸片子的表片，要勤換手套，避免擴散后出現(xiàn)臟片。

　?。?）稱重

　　a.每批片子的腐蝕深度都要檢測，不允許編造數(shù)據(jù)，搞混批次等。

　　b.要求每批測量4片。

　　c.放測量片時，把握均衡原則。如第一批放在1.3.5.7道，下一批則放在2.4.6.8道，便于檢測設備穩(wěn)定性以及溶液的均勻性。

　?。?）刻蝕槽液面的注意事項：

　　正常情況下液面均處于綠色，如果一旦在流片過程中顏色改變，立即通知工藝人員。

　?。?）產(chǎn)線上沒有充足的片源時，工藝要求:

　　a.停機1小時以上，要將刻蝕槽的藥液排到tank，減少藥液的揮發(fā)。

　　b.停機15分鐘以上要用水槍沖洗堿槽噴淋及風刀，以防酸堿形成的結晶鹽堵塞噴淋口及風刀。

　　c.停機1h以上，要跑假片，至少一批（400片）且要在生產(chǎn)前半小時用水槍沖洗風刀處的滾輪，杜絕制絨后的片子有滾輪印。

　　(5)前清洗到擴散的產(chǎn)品時間:

　　最長不能超過4小時,時間過長硅片會污染氧化，到擴散污染爐管,從 而影響后面的電性能及效率

5. 前清洗工序常見工藝問題

　　常見故障原因及解決方法

　　前清洗工藝刻蝕深度不穩(wěn)定a觀察來片是否有異常，或者來片一批中是否是不同晶棒組成，因為不同的片子會對應不同的刻蝕速率。

　　b查看溶液顏色，正常的顏色應該是灰色偏綠。如果覺得顏色過淺，流假片，一般以400片為一個循環(huán)。然后測試4片硅片刻蝕深度。

　　硅片表面有大面積黃斑觀察堿槽溶液是否在循環(huán)，若沒有循環(huán)，手動打開循環(huán)．若有循環(huán)則說明堿濃度不夠，需要補加堿．硅片表面有小白條觀察氣刀是否被堵，通過查看硅片通過氣刀下方時表面液體有無被吹干判斷。

　　滾輪速度較低或較高a一般我們要求滾輪在1.0~1.2的速度下流片，因為過低的速度會影響產(chǎn)量，過高的速度風刀很難將硅片吹干。所以如果滾輪速度小于1.0，需要手動加液，一般按2升HF，5升HNO3進行補液。同時可以將溫度提高，以1度為一個單位升高（可在5~8度之間進行調(diào)整）。但是對于溫度的設定，我們一般選擇較低的溫度，因為較低的溫度下可以得到很穩(wěn)定的化學反應，所以溫度一般不建議調(diào)高，b如果滾輪速度過高，在溫度降低仍不能滿足要求的情況下，可以加水，但是僅能以2升為一個單位加入。前清洗工藝堿槽或酸槽不循環(huán)觀察設備下面的循環(huán)平衡有沒有冒泡泡

　　原因分析：

a: 可能風刀堵塞，使溶液跑到水槽2中；

　　b: 可能噴淋堵塞；

　　c: 可能濾芯堵塞；

　　解決方法：

a:先期在初始界面處可以發(fā)現(xiàn)各自對應的模板,在“ready”

　　“not ready”之間閃動，此時需要工藝立即補液（HCL：HF：DI=3：2：14；KOH：DI=1：10）

　　b:通知設備通風刀（冒泡泡）或清洗更換濾芯

　?。ㄑa加了藥水后還沒循環(huán)，浮標沉到底部不起來）

　　堿槽或酸槽流量變小 工藝需要檢查槽中溶液是否滿，如果不滿則添藥液；如果是滿的，則通知設備檢查濾芯是否需要更換或清洗。

　　流量突變，不能達到工藝設定流量 前清洗流量會突然變?yōu)?，此時設備會報警，工藝立即到現(xiàn)場通知生產(chǎn)停止投料，通知設備人員調(diào)試設備，然后處理設備中的硅片，挑出外觀未受影響的硅片繼續(xù)下傳，外觀受影響的隔離處理水紋片 用手可以抹去的，檢查出料處滾輪的干凈程度，一般是出料處風刀中間段滾輪出現(xiàn)污染，需要設備擦拭，如果不嚴重，流假片也可以將臟東西帶走。

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