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晶片凸點(diǎn)電鍍設(shè)備-CSE

發(fā)布時(shí)間： 2016 - 06 - 22

晶片凸點(diǎn)電鍍設(shè)備-華林科納（江蘇）CSE 傳統(tǒng)的IC器件是硅圓片在前工序加工完畢后，送到封裝廠進(jìn)行減薄、劃片、引線鍵合等封裝工序。但無論是雙列直插封裝（DIP），還是四邊引線扁平封裝（QFP），封裝后的體積都比芯片本身體積大很多倍。由于手機(jī)等便攜式裝置的體積很小，所以要求器件的體積越小越好，像有300多個(gè)引出端的液晶顯示器（LCD）驅(qū)動電路，必須采用WLP的芯片尺寸封裝（CSP）。有些特殊的高頻器件，為了減小引線電感的影響，要求從芯片到外電路之間的引線越短越好。在這些情況下，華林科納的工程師采用了芯片尺寸封裝（CSP），方法之一就是在芯片的引出端上制作凸焊點(diǎn)，例如金凸點(diǎn)、焊料凸點(diǎn)、銦凸點(diǎn)，然后直接倒裝焊在相應(yīng)的基板上。更多晶圓電鍍設(shè)備可以關(guān)注華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)m.hbweixin.com；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的晶圓電鍍設(shè)備的相關(guān)方案

IPA干燥系統(tǒng)設(shè)備-CSE

發(fā)布時(shí)間： 2016 - 03 - 08

IPA干燥設(shè)備-華林科納CSE華林科納（江蘇）CSE-IPA干燥設(shè)備主要用于材料加工太陽能電池片分立器件 GPP等行業(yè)中晶片的沖洗干燥工藝，單臺產(chǎn)量大，效率高設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-IPA干燥設(shè)備應(yīng)用范圍適用于2-8”圓片及方片動平衡精度高規(guī)格工藝時(shí)間：一般親水性晶圓片： ≤10 增加 @ 0.12 μm疏水性晶圓片： ≤30 增加 @ 0.12 μm金屬含量：任何金屬≤ 1?1010 atoms / cm2 增加干燥斑點(diǎn)：干燥后無斑點(diǎn)IPA 消耗量： ≤ 30 ml / run 設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.hbweixin.com 400-8768-096 ；18913575037IPA 干燥系統(tǒng)組成: IPA干燥工藝原理 01: IPA干燥工藝原理 02:更多的IPA干燥系統(tǒng)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（m.hbweixin.com），現(xiàn)在熱線咨詢0513- 87733829可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。

酸/堿刻蝕機(jī)

發(fā)布時(shí)間： 2016 - 03 - 07

刻蝕方法分為：干法刻蝕和濕法刻蝕，干法刻蝕是以等離子體進(jìn)行薄膜刻蝕的技術(shù)，一般是借助等離子體中產(chǎn)生的粒子轟擊刻蝕區(qū)，它是各向異性的刻蝕技術(shù)，即在被刻蝕的區(qū)域內(nèi)，各個(gè)方向上的刻蝕速度不同，通常Si3N4、多晶硅、金屬以及合金材料采用干法刻蝕技術(shù)；濕法刻蝕是將被刻蝕材料浸泡在腐蝕液內(nèi)進(jìn)行腐蝕的技術(shù)，這是各向同性的刻蝕方法，利用化學(xué)反應(yīng)過程去除待刻蝕區(qū)域的薄膜材料，通常SiO2采用濕法刻蝕技術(shù)，有時(shí)金屬鋁也采用濕法刻蝕技術(shù)。下面分別介紹各種薄膜的腐蝕方法流程：二氧化硅腐蝕：在二氧化硅硅片腐蝕機(jī)中進(jìn)行，腐蝕液是由HF、NH4F、與H2O按一定比例配成的緩沖溶液。腐蝕溫度一定時(shí)，腐蝕速率取決于腐蝕液的配比和SiO2摻雜情況。摻磷濃度越高，腐蝕越快，摻硼則相反。SiO2腐蝕速率對溫度最敏感，溫度越高，腐蝕越快。具體步驟為：1、將裝有待腐蝕硅片的片架放入浸潤劑（FUJI FILM DRIWEL）中浸泡10—15S，上下晃動，浸潤劑（FUJI FILM DRIWEL）的作用是減小硅片的表面張力，使得腐蝕液更容易和二氧化硅層接觸，從而達(dá)到充分腐蝕；2、將片架放入裝有二氧化硅腐蝕液（氟化銨溶液）的槽中浸泡，上下晃動片架使得二氧化硅腐蝕更充分，腐蝕時(shí)間可以調(diào)整，直到二氧化硅腐蝕干凈為止；3、沖純水；4、甩干。二氧化硅腐蝕機(jī)理為：SiO2+4HF=SiF4+2H2OSiF4+2HF=H2SiF6H2SiF6（六氟硅酸）是可溶于水的絡(luò)合物，利用這個(gè)性質(zhì)可以很容易通過光刻工藝實(shí)現(xiàn)選擇性腐蝕二氧化硅。為了獲得穩(wěn)定的腐蝕速率，腐蝕二氧化硅的腐蝕液一般用HF、NH4F與純水按一定比例配成緩沖液。由于基區(qū)的氧化層較發(fā)射區(qū)的厚，以前小功率三極管的三次光刻（引線孔光刻）一般基極光刻和發(fā)射極光刻分步光刻，現(xiàn)在大部分都改為一步光刻，只有少部分品種還分步光刻，比如2XN003，2XN004，2XN013，2XP013等...

高溫磷酸清洗機(jī)

發(fā)布時(shí)間： 2016 - 03 - 07

設(shè)備名稱：高溫磷酸清洗機(jī)設(shè)備型號：CSE-SZ2011-16整機(jī)尺寸：約2800mm（L）×1200mm(w)×1900mm（H）節(jié)拍：根據(jù)實(shí)際工藝時(shí)間可調(diào)清洗量：批量清洗時(shí)，采用提籃裝片，單次清洗圓片的數(shù)量要求如下2＂外延片，每次不少于1藍(lán)，每籃不少于25片4＂外延片，每次不少于1藍(lán)，每籃不少于20片6＂外延片，每次不少于1藍(lán)，每籃不少于20片框架材料:優(yōu)質(zhì)10mm瓷白PP板機(jī)殼，優(yōu)質(zhì)碳鋼骨架，外包3mmPP板防腐機(jī)臺底部：廢液排放管路，防漏液盤結(jié)構(gòu)機(jī)臺支腳：有滑輪裝置及固定裝置，并且通過可調(diào)式地腳，可高低調(diào)整及鎖定功能DIW上水管路及構(gòu)件采用日本積水CL-PVC管材，排水管路材質(zhì)為PP管排風(fēng)：位于機(jī)臺后上部工作照明：上方防酸型照明臺面板為優(yōu)質(zhì)10mmPP板（帶有圓形漏液孔，清除臺面殘留液體）附件：水、氣槍左右各兩套控制方式：PROFACE/OMRON + 三菱、OMRON 品牌 PLC 組合控制；安全保護(hù)裝置： ●設(shè)有EMO(急停裝置)， ●強(qiáng)電弱點(diǎn)隔離 ●設(shè)備三層防漏托盤傾斜漏液報(bào)警設(shè)備整體置于防漏托盤內(nèi)臺面布置圖：各槽工藝參數(shù)

芯片鍍金設(shè)備-CSE

發(fā)布時(shí)間： 2017 - 12 - 06

芯片鍍金設(shè)備-華林科納（江蘇）CSE 晶圓電鍍工藝在半導(dǎo)體、MEMS、LED 和 WL package 等領(lǐng)域中應(yīng)用非常廣泛。華林科納（江蘇）的晶圓電鍍設(shè)備針對這些應(yīng)用研發(fā)和生產(chǎn)的，對所有客戶提供工藝和設(shè)備一體化服務(wù)。產(chǎn)品分生產(chǎn)型和研發(fā)型兩大類，適合不同客戶的需求。設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-芯片鍍金設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體、MEMS、LED操作模式：PLC集成控制具體應(yīng)用：電鍍、電鑄工藝類型：電鍍Au，Cu，Ni，Sn,Ag晶圓尺寸：8inch或以下尺寸，單片或多片基本配置：操作臺（1套），主電鍍槽（2套），腐蝕槽（2套），清洗（1套）設(shè)備功能和特點(diǎn)（不同電鍍工藝配置有所差異） 1. 產(chǎn)品名稱：芯片鍍金設(shè)備 2. 產(chǎn)品系列：CSE-XL3. 晶圓尺寸：4-6inch. 4. 集成控制系統(tǒng)，內(nèi)置MST-MP-COTROL程序 5. 主體材料：勞士領(lǐng)PP 6. 四面溢流設(shè)計(jì) 7. 溫度控制系統(tǒng)：70+/-1C 8. 循環(huán)過濾出系統(tǒng)，流量可調(diào)。 9. 垂直噴流掛鍍操作。 10. 專用陰陽極 11. 陰極擺動裝置，頻率可調(diào)。 12. 陽極均化裝置。 13. 防氧化系統(tǒng)。 14. 充N2裝置。 15. 排風(fēng)操作臺，風(fēng)量可調(diào)。 16. 活化腐蝕系統(tǒng)。 17. 三級清洗系統(tǒng)。 18. 電鍍液體系：均為無氰電鍍液體系。 19. 工藝：表面均勻，厚度1-100um，均勻性5% 設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.hbweixin.com 400-8768-096 ；18913575037更多晶圓電鍍設(shè)備可以關(guān)注華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)w...

異質(zhì)結(jié)電池HIT HJT制絨清洗設(shè)備

發(fā)布時(shí)間： 2017 - 04 - 06

異質(zhì)結(jié)高效電池(HJT、HIT)制絨清洗設(shè)備—華林科納CSE 設(shè)備用途：對高效太陽能電池異質(zhì)結(jié)電池片進(jìn)行制絨、清洗設(shè)備工藝流程：l H2O2工藝：SC1處理→純水清洗→去損傷→純水清洗→制絨→純水清洗→純水清洗→PSC1→純水清洗→化學(xué)拋光(HNO3)→純水清洗→SC2處理→純水清洗→氫氟酸洗→純水清洗→預(yù)脫水→烘干l O3工藝：預(yù)清洗(O3)→純水清洗→去損傷→純水清洗→制絨→純水清洗→純水清洗→PSC1→純水清洗→化學(xué)拋光(O3)→純水清洗→SC2處理→純水清洗→氫氟酸洗→純水清洗→預(yù)脫水→烘干技術(shù)特點(diǎn)：l 兼容MES、UPS和RFID功能l 機(jī)械手分配合理，有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時(shí)l 結(jié)構(gòu)布局緊湊合理并且采用雙層槽結(jié)構(gòu)，設(shè)備占地空間小l 先進(jìn)的400片結(jié)構(gòu)，有效提高設(shè)備工藝產(chǎn)能l 工藝槽體采用“定排定補(bǔ)”模式和“時(shí)間補(bǔ)液”模式相結(jié)合，有效延長藥液使用壽命和減少換液周期l 補(bǔ)配液采用槽內(nèi)與補(bǔ)液罐雙磁致伸縮流量計(jì)線性檢測，以及可調(diào)節(jié)氣閥控流結(jié)構(gòu)，有效保證初配時(shí)間和微量精補(bǔ)配液的精度l 所有與液體接觸材料優(yōu)化升級，避免材料使用雜質(zhì)析出l 采用最新低溫烘干技術(shù)，保證槽內(nèi)潔凈度和溫度控制精度技術(shù)參數(shù)：l 設(shè)備尺寸（mm）：26600(L)*2800(W)*2570(H)l Uptime：≥95%l 破片率：≤0.05%l MTTR：4hl MTBF：450hl 產(chǎn)能：6000pcs/hl 功率消耗：398KW更多異質(zhì)結(jié)高效電池制絨清洗相關(guān)設(shè)備，可以關(guān)注網(wǎng)址：http://m.hbweixin.com，熱線：400-8768-096，18913575037

單腔立式甩干機(jī)-CSE

發(fā)布時(shí)間： 2016 - 12 - 05

單腔立式甩干機(jī)-華林科納CSE華林科納（江蘇）CSE-單腔立式甩干機(jī)系統(tǒng)應(yīng)用于各種清洗和干燥工藝設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-單腔立式甩干機(jī)優(yōu) 點(diǎn) 清洗系統(tǒng)應(yīng)用于各種清洗和干燥工藝不同配置（可放置臺面操作的設(shè)備、單臺獨(dú)立、雙腔）適用于晶圓尺寸至200mm 最佳的占地，設(shè)備帶有滾輪可移動優(yōu)越的可靠性獨(dú)特的模塊化結(jié)構(gòu) 極其便于維修易于使用和操作一般特征適用于晶圓直徑至200mm 25片晶圓單盒工藝標(biāo)準(zhǔn)的高邊和低邊花籃可選內(nèi)置電阻率檢測傳感器來控制晶圓的清洗工藝用冷或熱的N2輔助晶圓干燥離心頭容易更換圖形化的界面：基于PLC的彩色5.7“的觸摸屏可以編輯10多個(gè)菜單，每個(gè)菜單可有10步多等級用戶密去靜電裝置安裝于工藝腔室區(qū) 去離子水回收電阻率監(jiān)測裝置機(jī)械手自動加載可放置臺面操作的設(shè)備、單臺獨(dú)立、雙腔 SECS/GEM 去離子水加熱系統(tǒng) 底座置放不銹鋼滾輪溶劑滅火裝置適用特殊設(shè)計(jì)的花籃設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.hbweixin.com 0513-87733829；更多的單腔立式甩干機(jī)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（m.hbweixin.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8798096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。

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異質(zhì)結(jié)電池HIT HJT制絨清洗設(shè)備

單腔立式甩干機(jī)-CSE

PP通風(fēng)柜---華林科納CSE

PP通風(fēng)櫥---華林科納CSE華林科納（江蘇）半導(dǎo)體CSE-PP通風(fēng)柜專為氫氟酸及硝化類濃酸設(shè)計(jì)的實(shí)驗(yàn)室通風(fēng)櫥，克服了傳統(tǒng)通風(fēng)柜在高溫濃酸環(huán)境下易生銹、變黃、龜裂等缺陷，具有的耐酸堿性能。適用行業(yè)：適用于各類研究實(shí)驗(yàn)室---半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室、藥物實(shí)驗(yàn)室【產(chǎn)品描述】設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-PP通風(fēng)柜產(chǎn)品描述【柜體】：采用厚8-12mm瓷白色PP制作，耐酸堿性能優(yōu)異。經(jīng)CNC精確裁切加工后，同色同質(zhì)焊條熔焊修飾處理，表面無銳角。【上部柜體】：排氣柜采用頂罩式抽氣設(shè)計(jì),設(shè)計(jì)有1個(gè)∮250mm排風(fēng)口。導(dǎo)流板采用同質(zhì)PP材料制作，耐酸堿性能優(yōu)異。安裝尺寸科學(xué)合理，無氣流死角，獲取最大的廢氣捕捉性能。【操作臺面】：臺面采用12mmPP板制作，耐酸堿性能優(yōu)異。通風(fēng)柜臺面上水槽根據(jù)用戶要求配置。【下部柜體】：儲物柜體，中間加一層隔板。鉸鏈采用黑色塑料鉸鏈，耐腐蝕性能好。拉手采用同質(zhì)C型PP拉手?！菊{(diào)節(jié)門】1. 調(diào)節(jié)門玻璃：采用厚4mm透明亞克力玻璃制作，耐酸堿性能優(yōu)異。2.調(diào)節(jié)門邊框：為厚瓷白色PP板c型槽，嵌入式結(jié)合，以確保安全及耐用性。 3.調(diào)節(jié)門懸吊鋼索：每臺通風(fēng)柜調(diào)節(jié)門鋼索連接。4.調(diào)節(jié)門平衡配重：采無段式配重箱設(shè)計(jì)，其上下行程具靜音軌道予以限制避免搖晃碰撞。【電器設(shè)備】1.開關(guān)：按鈕帶燈式自鎖開關(guān)，包含風(fēng)機(jī)開關(guān)，照明開關(guān)，總電源開關(guān)。2.照明設(shè)備：采用全罩式三防燈具，燈罩內(nèi)具220v*20w*23.插座部分：每臺通風(fēng)柜裝設(shè)帶防濺蓋220V10A 電源插座2個(gè)。設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.hbweixin.com 400-8768-096；18913575037【詳細(xì)參數(shù)】產(chǎn)品名稱PP通風(fēng)櫥產(chǎn)品型號PPFG-120PPFG-150PPFG-180外形尺寸（L×W×H）1...

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甩干機(jī)—華林科納CSE

甩干機(jī)—華林科納CSESpin-dry machine 設(shè)備名稱CSE-甩干機(jī)主要功能晶圓或器件的清洗甩干腔體數(shù)量單腔/雙腔/四腔尺寸(參考)約L×D×H＝面寬480mm×縱深820mm×高度1750mm清洗件規(guī)格4寸/5/寸6寸/8寸等尺寸晶圓或器件操作流程人工上貨→DI噴洗加轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)→HOTN2吹干加轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)→加速旋干含艙體加熱保溫→完成設(shè)備預(yù)設(shè)之制程結(jié)束。工作轉(zhuǎn)速300—2400r/min主體構(gòu)造特點(diǎn)外觀材質(zhì)：本體以W-PP10t板材質(zhì)組焊組合。設(shè)備骨架：SUS25*25*1.2T骨架組合，結(jié)構(gòu)強(qiáng)固。作業(yè)視窗：視窗采透明壓克力材質(zhì)，有效掌握作業(yè)情況。管路系統(tǒng)：OneChamber模塊化。排風(fēng)系統(tǒng)：間接式抽風(fēng)設(shè)計(jì)，有效穩(wěn)定空氣擾流，并同時(shí)減低異味。機(jī)臺支腳：具高低調(diào)整及鎖定功能。機(jī)臺正壓保護(hù)：采N2正壓保護(hù)。機(jī)臺微塵控制量：無刷伺服電機(jī)去靜電氮?dú)饪刂茊卧?)管件閥門：SMC電磁閥、PFA高純管件、PTFE氣動閥門。2)氮?dú)饧訜峁δ埽翰讳P鋼加熱器在線加熱3)低壓氮?dú)夤δ埽捍龣C(jī)時(shí)，保持腔內(nèi)正壓，防止污染。DIW控制單元1)采用旋流式?jīng)_洗噴嘴。2)排水口安裝電阻率探頭，對腔體排水水質(zhì)進(jìn)行監(jiān)測。3)沖洗工藝完成后，氮?dú)鈱埩粼跊_洗管路內(nèi)的去離子水吹凈。4)待機(jī)時(shí)，保持回水盒內(nèi)有水流入且流量可調(diào)。電控單元及軟件系統(tǒng)1）控制器操作界面：5.7”記憶人機(jī)+PLC可程序自動化控制器(人機(jī)TouchScreen)。2）軟件功能：編輯/儲存：制程/維修/警示/編輯/配方/，皆可從操作熒幕上修改。3）儲存能力：記憶模塊：參數(shù)記憶，配方設(shè)定。更多的甩干機(jī)清洗相關(guān)設(shè)備，可以關(guān)注http://m.hbweixin.com ,0513-87733829

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兆聲清洗機(jī)-CSE

半導(dǎo)體兆聲清洗機(jī)—華林科納CSE Mega sonic cleaning machine華林科納CSE-兆聲清洗機(jī) 適用于硅晶片藍(lán)寶石晶片砷化鎵晶片磷化銦晶片碳化硅晶片石英晶片可處理晶片尺寸2'-8'；可處理晶圓材料：硅砷化鎵磷化銦氮化鎵碳化硅鈮酸鋰鉭酸鋰等；主要應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體太陽能光伏液晶等設(shè)備名稱CSE-兆聲清洗機(jī)類型槽式尺寸(參考)約3500（L）×1350 (W)×2300mm (H)清洗件規(guī)格4” 2籃50片設(shè)備凈重1T運(yùn)行重量1.5T±10%電源380v 50hz 功率70kw槽體尺寸200mm*400mm*260mm槽數(shù)6個(gè)操作方式手動/半自動/全自動適用規(guī)格2英寸-8英寸適用領(lǐng)域半導(dǎo)體、太陽能、液晶等設(shè)備穩(wěn)定性1、清洗良品率≥99%2、≥0.2um顆粒少于10顆產(chǎn)品簡介1設(shè)備機(jī)架采用不銹鋼骨架外包PP板，耐酸堿腐蝕；2電氣區(qū)設(shè)置在設(shè)備后上部，與濕區(qū)和管路區(qū)完全隔離；3槽體材料選用耐相應(yīng)溶液腐蝕的材料；4機(jī)械手探入濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理；5設(shè)備排風(fēng)采用頂部百級FFU送新風(fēng)，臺面下抽風(fēng)，每套工藝清洗槽都有自動開閉的槽蓋，槽蓋下有單獨(dú)的抽風(fēng)裝置，排風(fēng)口處設(shè)有自動調(diào)節(jié)風(fēng)門，即上電打開風(fēng)門，斷電關(guān)閉風(fēng)門，具有風(fēng)壓檢測功能，以及氮?dú)?、壓縮空氣壓力報(bào)警功能；6溶液槽中藥液自動供液按設(shè)定好比例混合，并可在工作過程中根據(jù)設(shè)定補(bǔ)液；客戶根據(jù)自身工藝條件自行設(shè)定；7臺面為多孔結(jié)構(gòu)，便于臺面上沖洗水、液的排出；8操作面設(shè)有透明PVC安全門；9設(shè)備設(shè)有漏電、急停、液位、過溫、安全門開、漏液、超時(shí)等保護(hù)和報(bào)警裝置，保證設(shè)備的安全可靠；10配備有進(jìn)口PFA，水、氣槍各一。更多半導(dǎo)體兆聲清洗機(jī)設(shè)備（最終清洗機(jī)設(shè)...

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干燥系統(tǒng)-CSE

干燥系統(tǒng)-華林科納CSE適用于最大尺寸300mm晶圓的干燥技術(shù)優(yōu)點(diǎn)NID?干燥系統(tǒng)利用IPA和N2霧化分配，以及晶圓與水脫離時(shí)形成了表面張力干燥的技術(shù)適用于最大尺寸300mm晶圓的干燥技術(shù) 可單臺設(shè)備或整合在濕法設(shè)備中最佳的占地成熟的工藝無水跡無碎片應(yīng)用：拋光片、集成電路、MEMES、LED、光伏、玻璃基片一般特征：可同時(shí)干燥25到50片直徑最大為300mm的晶圓適用于標(biāo)準(zhǔn)高邊或低邊花籃規(guī)格：藝時(shí)間：一般親水性晶圓片： ≤ 10 增加 @ 0.12 μm疏水性晶圓片： ≤ 30 增加 @ 0.12 μm金屬含量：任何金屬≤ 1?1010 atoms / cm2 增加干燥斑點(diǎn)：干燥后無斑點(diǎn)IPA 消耗量： ≤ 30 ml / run去邊緣： 3 mm一般安裝參數(shù)：尺寸: 660 x 1440 x 2200 (長 x 寬 x 高)標(biāo)準(zhǔn)電壓: 3 x 400 VAC額定功率: 50 Hz標(biāo)準(zhǔn)電流: 3 x 33 A培訓(xùn)：操作、維護(hù)、工藝培訓(xùn)標(biāo)準(zhǔn)： CE Semi S2 and S8 FM 4910 SECS/GEM可靠性：平均故障間隔時(shí)間 ≥ 800 h 輔助平均間隔時(shí)間 ≥ 300 h 可運(yùn)行時(shí)間 ≥ 97 %更多的干燥系統(tǒng)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（m.hbweixin.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。

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廢氣處理系統(tǒng)---CSE

廢氣處理系統(tǒng)-華林科納（江蘇）CSE華林科納（江蘇）半導(dǎo)體CSE 的廢氣處理系統(tǒng)可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體，負(fù)壓范圍為:-500Pa 至 -1500Pa；設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-廢氣處理系統(tǒng)系統(tǒng)說明1.可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體，負(fù)壓范圍為:-500Pa 至 -1500Pa；2.工藝穩(wěn)定,負(fù)壓波動在15%.3.電壓:380V，三相五線，8KW；4.采用英國廢氣處理系統(tǒng)工藝，CSE在原工藝上經(jīng)過升級改造，新的系統(tǒng)推出市場后，客戶反映效果較好；系統(tǒng)工作原理為酸性/堿性/其它特殊氣體處理系統(tǒng)，主要由以下幾大部分組成：負(fù)壓腔、正壓腔、初級錐形噴淋塔、三級噴淋凈化塔、高壓射流器、抽風(fēng)孔、負(fù)壓動力泵、循環(huán)噴淋泵、電控系統(tǒng);廢氣經(jīng)過一級錐形噴淋塔進(jìn)入負(fù)壓腔內(nèi)（每個(gè)噴淋塔中間為傘裝型噴頭，對廢氣層形成水封，瞬間中和廢氣）、通過射流器產(chǎn)生負(fù)壓把負(fù)壓腔內(nèi)的廢氣抽入正壓腔內(nèi)中和（在負(fù)壓腔與正壓腔之間設(shè)有三級噴淋凈化塔，三級噴淋凈化塔內(nèi)配有PP填料，配有噴嘴，再次充分噴淋中和廢氣）、處理完的氣通過正壓腔上的排氣口排出。成功案例河北普興電子有限公司上海新傲半導(dǎo)體有限公司上海硅酸鹽研究所中試基地蘇州納維科技有限公司設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.hbweixin.com 400-8768-096 ；18913575037更多半導(dǎo)體行業(yè)廢氣處理系統(tǒng)可以關(guān)注華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)m.hbweixin.com；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的廢氣處理系統(tǒng)的相關(guān)方案。

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GMP自動供液系統(tǒng)-CSE

GMP自動供液系統(tǒng)-華林科納（江蘇）CSEChemical Dispense System System 華林科納（江蘇）半導(dǎo)體CSE-GMP自動供液系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送，經(jīng)管道至設(shè)備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點(diǎn)；具有良好的耐腐蝕性能?？刂颇Ｊ剑菏謩涌刂颇Ｊ?、自動控制模式設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-GMP自動供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi)：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房；3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材，內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì)；4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn)；5. 過濾器：配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼；6. 供液泵：每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān)；8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能：每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶（自動切換）、配兩臺泵（一用一備）、帶過濾器；系統(tǒng)控制單元：配帶OMRON 8”彩色觸摸屏，OMRON品牌PLC系統(tǒng)；2. 操作模式： CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制，操作介面以流程方式執(zhí)行，兼具自動化與親和力。在自動...

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研磨液自動供液系統(tǒng)-CSE

研磨液自動供液系統(tǒng)-華林科納（江蘇）CSEChemical Dispense System System 華林科納（江蘇）半導(dǎo)體CSE-研磨液自動供液系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送，經(jīng)管道至設(shè)備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點(diǎn)；具有良好的耐腐蝕性能?？刂颇Ｊ剑菏謩涌刂颇Ｊ健⒆詣涌刂颇Ｊ皆O(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-研磨液自動供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計(jì)基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi)：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房；3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材，內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì)；4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn)；5. 過濾器：配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼；6. 供液泵：每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān)；8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報(bào)功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能：每種化學(xué)液體配兩個(gè)桶（自動切換）、配兩臺泵（一用一備）、帶過濾器；系統(tǒng)控制單元：配帶OMRON 8”彩色觸摸屏，OMRON品牌PLC系統(tǒng)；2. 操作模式： CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制，操作介面以流程方式執(zhí)行，兼具自動化與親和力。在自動...

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SPM腐蝕機(jī)-華林科納CSE

SPM腐蝕清洗機(jī)設(shè)備——華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設(shè)備是國內(nèi)最早致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位，多年來與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作，研制開發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設(shè)備。其中SPM自動清洗系統(tǒng)設(shè)備主要用于LED芯片制造過程中硅片表面有機(jī)顆粒和部分金屬顆粒污染的自動清洗工藝。設(shè) 備名稱華林科納（江蘇）CSE-SPM腐蝕酸洗機(jī)適用領(lǐng) 域LED外延及芯片制造設(shè) 備用途硅晶片化學(xué)腐蝕和清洗的設(shè)備基本介紹主要功能：通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進(jìn)行處理，從而達(dá)到一個(gè)用戶要求的效果可處理晶圓材料：硅砷化鎵磷化銦氮化鎵碳化硅鈮酸鋰鉭酸鋰等被清洗硅片尺寸:2-8寸（25片/藍(lán)）設(shè)備形式：室內(nèi)放置型操作形式：自動設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.hbweixin.com 400-8768-096；18913575037更多的全自動半導(dǎo)體SPM腐蝕清洗機(jī)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（m.hbweixin.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。

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全自動濕法去膠清洗機(jī)-CSE

全自動濕法去膠清洗機(jī)-華林科納（江蘇）CSE華林科納CSE濕法處理設(shè)備是國內(nèi)最早致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位，多年來與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作，研制開發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設(shè)備設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-全自動濕法去膠清洗機(jī)設(shè)備設(shè)備概況尺寸(參考)：約3500（L）*1500(W)*2000(H)（具體尺寸根據(jù)實(shí)際圖紙確定）清洗件規(guī)格：一次性可裝8寸晶片25pcs典型生產(chǎn)節(jié)拍：5～10min/籃（清洗節(jié)拍連續(xù)可調(diào)）門：不銹鋼合頁門+PVC視窗主題構(gòu)造特點(diǎn)設(shè)備由于是在一個(gè)腐蝕的環(huán)境，我們設(shè)備的排風(fēng)方式，臺面下抽風(fēng)，每套工藝清洗槽都有自動開閉的槽蓋，槽蓋下有單獨(dú)的抽風(fēng)裝置。設(shè)備結(jié)構(gòu)外型，整機(jī)主要由機(jī)架、工藝槽體、機(jī)械手傳輸系統(tǒng)、排風(fēng)系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、水路系統(tǒng)及氣路系統(tǒng)等組成。由于工藝槽內(nèi)藥液腐蝕性強(qiáng)，設(shè)備需要做防腐處理：（1）設(shè)備機(jī)架采用鋼結(jié)構(gòu)骨架包塑；（2）殼體采用鏡面SUS316L不銹鋼焊接，制程區(qū)由耐腐蝕的SUS316L板材組合焊接而成：（3）電氣區(qū)設(shè)置在設(shè)備后上部，與濕區(qū)和管路區(qū)完全隔離；（4）槽體材料選用耐相應(yīng)溶液腐蝕的材料；（5）機(jī)械手探人濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理。應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波（SAW）器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.hbweixin.com 400-8768-096 ；18913575037更多全自動濕法去膠清洗機(jī)設(shè)備可以關(guān)注華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)m.hbweixin.com；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的全自動濕法去膠清洗機(jī)設(shè)備的相關(guān)方案

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金屬剝離清洗機(jī)-CSE

金屬剝離清洗機(jī)-華林科納（江蘇）CSE微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS)是指用微機(jī)械加工技術(shù)制作的包括傳感器/微致動器/微能源/等微機(jī)械基本部分以及高性能的電子集成線路組成的微機(jī)電器件與裝置。其典型的生產(chǎn)工藝流程為：成膜工藝（氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:濺射/電鍍/摻雜：擴(kuò)散注入退火）→光刻圖形（旋涂/光刻/顯影）→干法/濕法/ 刻蝕（濕法刻蝕/硅刻蝕/SiO?刻蝕/去膠清洗/金屬刻蝕/金屬剝離/RCA清洗）設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-金屬剝離清洗機(jī)設(shè)備系列CSE-CX13系列設(shè)備概況尺寸(參考)：機(jī)臺尺寸 : 1750mmWx1400mmDx1900mmH（具體尺寸根據(jù)實(shí)際圖紙確定）清洗量：6寸25裝花籃2籃；重量：500Kg( 大約)；工作環(huán)境：室內(nèi)放置；主體構(gòu)造特點(diǎn)外殼：不銹鋼304 板組合焊接而成。安全門：無安全門，采用敞開式設(shè)計(jì)；管路系統(tǒng)：藥液管路采用不銹鋼管，純水管路采用CL-PVC管；閥門：藥液管路閥門采用不銹鋼電磁閥門；排風(fēng)：后下抽風(fēng)，動力抽風(fēng)法蘭位于機(jī)臺上部；水汽槍：配有水氣槍各2把，分置于兩側(cè)；隔板：藥液槽之間配有隔離板，防止藥液交叉污染；照明：機(jī)臺上方配照明（與工作區(qū)隔離）；機(jī)臺支腳：有滑輪裝置及固定裝置，并且有高低調(diào)整及鎖定功能。三色警示燈置于機(jī)臺上方明顯處。工作槽參數(shù)剝離洗槽槽體：不銹鋼316，有效尺寸405×220×260mm；化學(xué)藥品：剝離洗液；藥液供液：人工手動加入；工作溫度：60℃并可調(diào)；溫度可調(diào)；加熱方式：五面體貼膜加熱/投入式加熱器加入熱；液位控制：采用N2背壓數(shù)位檢測；計(jì)時(shí)功能：工藝時(shí)間可設(shè)定，并可調(diào)，到設(shè)定時(shí)間后聲鳴提示，點(diǎn)擊按鈕后開始倒序計(jì)時(shí)；批次記憶：藥液使用次數(shù)可記憶，藥液供入時(shí)間可記憶，設(shè)定次數(shù)和設(shè)定時(shí)間到后更換藥液；排液：排液管道材質(zhì)為不銹鋼管，按鈕控制；槽蓋：配有手動槽蓋；IPA槽...

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