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異質(zhì)結(jié)高效電池(HJT、HIT)制絨清洗設(shè)備—華林科納CSE 設(shè)備用途： 對高效太陽能電池異質(zhì)結(jié)電池片進(jìn)行制絨、清洗設(shè)備工藝流程：l H2O2工藝：SC1處理→純水清洗→去損傷→純水清洗→制絨→純水清洗→純水清洗→PSC1→純水清洗→化學(xué)拋光(HNO3)→純水清洗→SC2處理→純水清洗→氫氟酸洗→純水清洗→預(yù)脫水→烘干l O3工藝：預(yù)清洗(O3)→純水清洗→去損傷→純水清洗→制絨→純水清洗→純水清洗→PSC1→純水清洗→化學(xué)拋光(O3)→純水清洗→SC2處理→純水清洗→氫氟酸洗→純水清洗→預(yù)脫水→烘干技術(shù)特點(diǎn)：l 兼容MES、UPS和RFID功能l 機(jī)械手分配合理，有效避免藥液交叉污染和槽體反應(yīng)超時l 結(jié)構(gòu)布局緊湊合理并且采用雙層槽結(jié)構(gòu)，設(shè)備占地空間小l 先進(jìn)的400片結(jié)構(gòu)，有效提高設(shè)備工藝產(chǎn)能l 工藝槽體采用“定排定補(bǔ)”模式和“時間補(bǔ)液”模式相結(jié)合，有效延長藥液使用壽命和減少換液周期l 補(bǔ)配液采用槽內(nèi)與補(bǔ)液罐雙磁致伸縮流量計線性檢測，以及可調(diào)節(jié)氣閥控流結(jié)構(gòu)，有效保證初配時間和微量精補(bǔ)配液的精度l 所有與液體接觸材料優(yōu)化升級，避免材料使用雜質(zhì)析出l 采用最新低溫烘干技術(shù)，保證槽內(nèi)潔凈度和溫度控制精度技術(shù)參數(shù)：l 設(shè)備尺寸（mm）：26600(L)*2800(W)*2570(H)l Uptime：≥95%l 破片率：≤0.05%l MTTR：4hl MTBF：450hl 產(chǎn)能：6000pcs/hl 功率消耗：398KW更多異質(zhì)結(jié)高效電池制絨清洗相關(guān)設(shè)備，可以關(guān)注網(wǎng)址：http://m.hbweixin.com，熱線：400-8768-096，18913575037
單腔立式甩干機(jī)-華林科納CSE華林科納（江蘇）CSE-單腔立式甩干機(jī)系統(tǒng)應(yīng)用于各種清洗和干燥工藝設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-單腔立式甩干機(jī)優(yōu) 點(diǎn) 清洗系統(tǒng)應(yīng)用于各種清洗和干燥工藝 不同配置（可放置臺面操作的設(shè)備、單臺獨(dú)立、雙腔） 適用于晶圓尺寸至200mm 最佳的占地，設(shè)備帶有滾輪可移動 優(yōu)越的可靠性 獨(dú)特的模塊化結(jié)構(gòu) 極其便于維修 易于使用和操作一般特征 適用于晶圓直徑至200mm 25片晶圓單盒工藝 標(biāo)準(zhǔn)的高邊和低邊花籃 可選內(nèi)置電阻率檢測傳感器來控制晶圓的清洗工藝 用冷或熱的N2輔助晶圓干燥 離心頭容易更換 圖形化的界面： 基于PLC的彩色5.7“的觸摸屏 可以編輯10多個菜單，每個菜單可有10步 多等級用戶密 去靜電裝置安裝于工藝腔室區(qū) 去離子水回收 電阻率監(jiān)測裝置 機(jī)械手自動加載 可放置臺面操作的設(shè)備、單臺獨(dú)立、雙腔 SECS/GEM 去離子水加熱系統(tǒng) 底座置放不銹鋼滾輪 溶劑滅火裝置 適用特殊設(shè)計的花籃設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.hbweixin.com 0513-87733829；更多的單腔立式甩干機(jī)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（m.hbweixin.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8798096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
![PP通風(fēng)柜---華林科納CSE]( "PP通風(fēng)柜---華林科納CSE")
PP通風(fēng)櫥---華林科納CSE華林科納（江蘇）半導(dǎo)體CSE-PP通風(fēng)柜 專為氫氟酸及硝化類濃酸設(shè)計的實(shí)驗(yàn)室通風(fēng)櫥，克服了傳統(tǒng)通風(fēng)柜在高溫濃酸環(huán)境下易生銹、變黃、龜裂等缺陷，具有的耐酸堿性能。適用行業(yè)：適用于各類研究實(shí)驗(yàn)室---半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室、藥物實(shí)驗(yàn)室 【產(chǎn)品描述】設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-PP通風(fēng)柜產(chǎn)品描述【柜體】：采用厚8-12mm瓷白色PP制作，耐酸堿性能優(yōu)異。經(jīng)CNC精確裁切加工后，同色同質(zhì)焊條熔焊修飾處理，表面無銳角。【上部柜體】：排氣柜采用頂罩式抽氣設(shè)計,設(shè)計有1個∮250mm排風(fēng)口。導(dǎo)流板采用同質(zhì)PP材料制作，耐酸堿性能優(yōu)異。安裝尺寸科學(xué)合理，無氣流死角，獲取最大的廢氣捕捉性能?！静僮髋_面】：臺面采用12mmPP板制作，耐酸堿性能優(yōu)異。通風(fēng)柜臺面上水槽根據(jù)用戶要求配置。【下部柜體】：儲物柜體，中間加一層隔板。鉸鏈采用黑色塑料鉸鏈，耐腐蝕性能好。拉手采用同質(zhì)C型PP拉手?！菊{(diào)節(jié)門】1. 調(diào)節(jié)門玻璃：采用厚4mm透明亞克力玻璃制作，耐酸堿性能優(yōu)異。2.調(diào)節(jié)門邊框：為厚瓷白色PP板c型槽，嵌入式結(jié)合，以確保安全及耐用性。 3.調(diào)節(jié)門懸吊鋼索：每臺通風(fēng)柜調(diào)節(jié)門鋼索連接。4.調(diào)節(jié)門平衡配重：采無段式配重箱設(shè)計，其上下行程具靜音軌道予以限制避免搖晃碰撞?！倦娖髟O(shè)備】1.開關(guān)：按鈕帶燈式自鎖開關(guān)，包含風(fēng)機(jī)開關(guān)，照明開關(guān)，總電源開關(guān)。2.照明設(shè)備：采用全罩式三防燈具，燈罩內(nèi)具220v*20w*23.插座部分：每臺通風(fēng)柜裝設(shè)帶防濺蓋220V10A 電源插座2個。設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.hbweixin.com 400-8768-096；18913575037【詳細(xì)參數(shù)】產(chǎn)品名稱PP通風(fēng)櫥產(chǎn)品型號PPFG-120PPFG-150PPFG-180外形尺寸（L×W×H）1...
![甩干機(jī)—華林科納CSE]( "甩干機(jī)—華林科納CSE")
甩干機(jī)—華林科納CSESpin-dry machine 設(shè)備名稱CSE-甩干機(jī)主要功能晶圓或器件的清洗甩干腔體數(shù)量單腔/雙腔/四腔尺寸(參考)約L×D×H＝面寬480mm×縱深820mm×高度1750mm清洗件規(guī)格4寸/5/寸6寸/8寸等尺寸晶圓或器件操作流程人工上貨→DI噴洗加轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)→HOTN2吹干加轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)→加速旋干含艙體加熱保溫→完成設(shè)備預(yù)設(shè)之制程結(jié)束。工作轉(zhuǎn)速300—2400r/min主體構(gòu)造特點(diǎn)外觀材質(zhì)：本體以W-PP10t板材質(zhì)組焊組合。設(shè)備骨架：SUS25*25*1.2T骨架組合，結(jié)構(gòu)強(qiáng)固。作業(yè)視窗：視窗采透明壓克力材質(zhì)，有效掌握作業(yè)情況。管路系統(tǒng)：OneChamber模塊化。排風(fēng)系統(tǒng)：間接式抽風(fēng)設(shè)計，有效穩(wěn)定空氣擾流，并同時減低異味。機(jī)臺支腳：具高低調(diào)整及鎖定功能。機(jī)臺正壓保護(hù)：采N2正壓保護(hù)。機(jī)臺微塵控制量：無刷伺服電機(jī)去靜電 氮?dú)饪刂茊卧?)管件閥門：SMC電磁閥、PFA高純管件、PTFE氣動閥門。2)氮?dú)饧訜峁δ埽翰讳P鋼加熱器在線加熱3)低壓氮?dú)夤δ埽捍龣C(jī)時，保持腔內(nèi)正壓，防止污染。DIW控制單元1)采用旋流式?jīng)_洗噴嘴。2)排水口安裝電阻率探頭，對腔體排水水質(zhì)進(jìn)行監(jiān)測。3)沖洗工藝完成后，氮?dú)鈱埩粼跊_洗管路內(nèi)的去離子水吹凈。4)待機(jī)時，保持回水盒內(nèi)有水流入且流量可調(diào)。電控單元及軟件系統(tǒng)1）控制器操作界面：5.7”記憶人機(jī)+PLC可程序自動化控制器(人機(jī)TouchScreen)。2）軟件功能：編輯/儲存：制程/維修/警示/編輯/配方/，皆可從操作熒幕上修改。3）儲存能力：記憶模塊：參數(shù)記憶，配方設(shè)定。 更多的甩干機(jī)清洗相關(guān)設(shè)備，可以關(guān)注http://m.hbweixin.com ,0513-87733829
![兆聲清洗機(jī)-CSE]( "兆聲清洗機(jī)-CSE")
半導(dǎo)體兆聲清洗機(jī)—華林科納CSE Mega sonic cleaning machine華林科納CSE-兆聲清洗機(jī) 適用于硅晶片 藍(lán)寶石晶片 砷化鎵晶片 磷化銦晶片 碳化硅晶片 石英晶片可處理晶片尺寸2'-8'；可處理晶圓材料：硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等；主要應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體 太陽能光伏 液晶等 設(shè)備名稱CSE-兆聲清洗機(jī)類型槽式尺寸(參考)約3500（L）×1350 (W)×2300mm (H)清洗件規(guī)格4” 2籃50片設(shè)備凈重1T運(yùn)行重量1.5T±10%電源380v 50hz 功率70kw槽體尺寸200mm*400mm*260mm槽數(shù)6個操作方式手動/半自動/全自動適用規(guī)格2英寸-8英寸適用領(lǐng)域半導(dǎo)體、太陽能、液晶等 設(shè)備穩(wěn)定性1、清洗良品率≥99%2、≥0.2um顆粒少于10顆 產(chǎn)品簡介1設(shè)備機(jī)架采用不銹鋼骨架外包PP板，耐酸堿腐蝕；2電氣區(qū)設(shè)置在設(shè)備后上部，與濕區(qū)和管路區(qū)完全隔離；3槽體材料選用耐相應(yīng)溶液腐蝕的材料；4機(jī)械手探入濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理；5設(shè)備排風(fēng)采用頂部百級FFU送新風(fēng)，臺面下抽風(fēng)，每套工藝清洗槽都有自動開閉的槽蓋，槽蓋下有單獨(dú)的抽風(fēng)裝置，排風(fēng)口處設(shè)有自動調(diào)節(jié)風(fēng)門，即上電打開風(fēng)門，斷電關(guān)閉風(fēng)門，具有風(fēng)壓檢測功能，以及氮?dú)狻嚎s空氣壓力報警功能；6溶液槽中藥液自動供液按設(shè)定好比例混合，并可在工作過程中根據(jù)設(shè)定補(bǔ)液；客戶根據(jù)自身工藝條件自行設(shè)定；7臺面為多孔結(jié)構(gòu)，便于臺面上沖洗水、液的排出；8操作面設(shè)有透明PVC安全門；9設(shè)備設(shè)有漏電、急停、液位、過溫、安全門開、漏液、超時等保護(hù)和報警裝置，保證設(shè)備的安全可靠；10配備有進(jìn)口PFA，水、氣槍各一。 更多半導(dǎo)體兆聲清洗機(jī)設(shè)備（最終清洗機(jī)設(shè)...
干燥系統(tǒng)-華林科納CSE適用于最大尺寸300mm晶圓的干燥技術(shù)優(yōu)點(diǎn)NID?干燥系統(tǒng)利用IPA和N2霧化分配，以及晶圓與水脫離時形成了表面張力干燥的技術(shù)適用于最大尺寸300mm晶圓的干燥技術(shù) 可單臺設(shè)備或整合在濕法設(shè)備中 最佳的占地 成熟的工藝 無水跡 無碎片應(yīng)用：拋光片、集成電路、MEMES、LED、光伏、玻璃基片一般特征： 可同時干燥25到50片直徑最大為300mm的晶圓 適用于標(biāo)準(zhǔn)高邊或低邊花籃規(guī)格：藝時間： 一般親水性晶圓片： ≤ 10 增加 @ 0.12 μm疏水性晶圓片： ≤ 30 增加 @ 0.12 μm金屬含量： 任何金屬≤ 1?1010 atoms / cm2 增加干燥斑點(diǎn)： 干燥后無斑點(diǎn)IPA 消耗量： ≤ 30 ml / run去邊緣： 3 mm一般安裝參數(shù)：尺寸: 660 x 1440 x 2200 (長 x 寬 x 高)標(biāo)準(zhǔn)電壓: 3 x 400 VAC額定功率: 50 Hz標(biāo)準(zhǔn)電流: 3 x 33 A培訓(xùn)：操作、維護(hù)、工藝培訓(xùn)標(biāo)準(zhǔn)： CE Semi S2 and S8 FM 4910 SECS/GEM可靠性： 平均故障間隔時間 ≥ 800 h 輔助平均間隔時間 ≥ 300 h 可運(yùn)行時間 ≥ 97 %更多的干燥系統(tǒng)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（m.hbweixin.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
廢氣處理系統(tǒng)-華林科納（江蘇）CSE華林科納（江蘇）半導(dǎo)體CSE 的廢氣處理系統(tǒng)可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體，負(fù)壓范圍為:-500Pa 至 -1500Pa； 設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-廢氣處理系統(tǒng)系統(tǒng)說明1.可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體，負(fù)壓范圍為:-500Pa 至 -1500Pa；2.工藝穩(wěn)定,負(fù)壓波動在15%.3.電壓:380V，三相五線，8KW；4.采用英國廢氣處理系統(tǒng)工藝，CSE在原工藝上經(jīng)過升級改造，新的系統(tǒng)推出市場后，客戶反映效果較好；系統(tǒng)工作原理為酸性/堿性/其它特殊氣體處理系統(tǒng)，主要由以下幾大部分組成：負(fù)壓腔、正壓腔、初級錐形噴淋塔、三級噴淋凈化塔、高壓射流器、抽風(fēng)孔、負(fù)壓動力泵、循環(huán)噴淋泵、電控系統(tǒng);廢氣經(jīng)過一級錐形噴淋塔進(jìn)入負(fù)壓腔內(nèi)（每個噴淋塔中間為傘裝型噴頭，對廢氣層形成水封，瞬間中和廢氣）、通過射流器產(chǎn)生負(fù)壓把負(fù)壓腔內(nèi)的廢氣抽入正壓腔內(nèi)中和（在負(fù)壓腔與正壓腔之間設(shè)有三級噴淋凈化塔，三級噴淋凈化塔內(nèi)配有PP填料，配有噴嘴，再次充分噴淋中和廢氣）、處理完的氣通過正壓腔上的排氣口排出。成功案例河北普興電子有限公司上海新傲半導(dǎo)體有限公司上海硅酸鹽研究所中試基地蘇州納維科技有限公司設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.hbweixin.com 400-8768-096 ；18913575037更多半導(dǎo)體行業(yè)廢氣處理系統(tǒng)可以關(guān)注華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)m.hbweixin.com；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的廢氣處理系統(tǒng)的相關(guān)方案。
GMP自動供液系統(tǒng)-華林科納（江蘇）CSEChemical Dispense System System 華林科納（江蘇）半導(dǎo)體CSE-GMP自動供液系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送，經(jīng)管道至設(shè)備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點(diǎn)；具有良好的耐腐蝕性能?？刂颇Ｊ剑菏謩涌刂颇Ｊ?、自動控制模式設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-GMP自動供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi)：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房；3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材，內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì)；4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn)；5. 過濾器：配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼；6. 供液泵：每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān)；8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能：每種化學(xué)液體配兩個桶（自動切換）、配兩臺泵（一用一備）、帶過濾器；系統(tǒng)控制單元：配帶OMRON 8”彩色觸摸屏，OMRON品牌PLC系統(tǒng)；2. 操作模式： CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制，操作介面以流程方式執(zhí)行，兼具自動化與親和力。在自動...
研磨液自動供液系統(tǒng)-華林科納（江蘇）CSEChemical Dispense System System 華林科納（江蘇）半導(dǎo)體CSE-研磨液自動供液系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設(shè)備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進(jìn)行配送，經(jīng)管道至設(shè)備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點(diǎn)；具有良好的耐腐蝕性能?？刂颇Ｊ剑菏謩涌刂颇Ｊ?、自動控制模式設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-研磨液自動供液系統(tǒng)設(shè)備型號CSE-CDS-N2601設(shè)計基準(zhǔn)1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設(shè)置于化學(xué)房內(nèi)：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學(xué)房；3. 設(shè)備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材，內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì)；4. 系統(tǒng)為采以化學(xué)原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運(yùn)送到制程使用點(diǎn)；5. 過濾器：配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼；6. 供液泵：每種化學(xué)液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進(jìn)口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān)；8. 所有化學(xué)品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設(shè)備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設(shè)備主要功能：每種化學(xué)液體配兩個桶（自動切換）、配兩臺泵（一用一備）、帶過濾器；系統(tǒng)控制單元：配帶OMRON 8”彩色觸摸屏，OMRON品牌PLC系統(tǒng)；2. 操作模式： CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制，操作介面以流程方式執(zhí)行，兼具自動化與親和力。在自動...
SPM腐蝕清洗機(jī)設(shè)備——華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設(shè)備是國內(nèi)最早致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位，多年來與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作，研制開發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設(shè)備。其中SPM自動清洗系統(tǒng)設(shè)備主要用于LED芯片制造過程中硅片表面有機(jī)顆粒和部分金屬顆粒污染的自動清洗工藝。設(shè) 備 名 稱華林科納（江蘇）CSE-SPM腐蝕酸洗機(jī)適 用 領(lǐng) 域LED外延及芯片制造設(shè) 備 用 途硅晶片化學(xué)腐蝕和清洗的設(shè)備基 本 介 紹主要功能：通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進(jìn)行處理，從而達(dá)到一個用戶要求的效果可處理晶圓材料：硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等被清洗硅片尺寸:2-8寸（25片/藍(lán)）設(shè)備形式：室內(nèi)放置型操作形式：自動設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.hbweixin.com 400-8768-096；18913575037更多的全自動半導(dǎo)體SPM腐蝕清洗機(jī)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（m.hbweixin.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8798-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
![全自動濕法去膠清洗機(jī)-CSE]( "全自動濕法去膠清洗機(jī)-CSE")
全自動濕法去膠清洗機(jī)-華林科納（江蘇）CSE華林科納CSE濕法處理設(shè)備是國內(nèi)最早致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位，多年來與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作，研制開發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設(shè)備 設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-全自動濕法去膠清洗機(jī)設(shè)備設(shè)備概況尺寸(參考)：約3500（L）*1500(W)*2000(H)（具體尺寸根據(jù)實(shí)際圖紙確定）清洗件規(guī)格：一次性可裝8寸晶片25pcs典型生產(chǎn)節(jié)拍：5～10min/籃（清洗節(jié)拍連續(xù)可調(diào)）門：不銹鋼合頁門+PVC視窗主題構(gòu)造特點(diǎn)設(shè)備由于是在一個腐蝕的環(huán)境，我們設(shè)備的排風(fēng)方式，臺面下抽風(fēng)，每套工藝清洗槽都有自動開閉的槽蓋，槽蓋下有單獨(dú)的抽風(fēng)裝置。設(shè)備結(jié)構(gòu)外型，整機(jī)主要由機(jī)架、工藝槽體、機(jī)械手傳輸系統(tǒng)、排風(fēng)系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、水路系統(tǒng)及氣路系統(tǒng)等組成。由于工藝槽內(nèi)藥液腐蝕性強(qiáng)，設(shè)備需要做防腐處理：（1）設(shè)備機(jī)架采用鋼結(jié)構(gòu)骨架包塑；（2）殼體采用鏡面SUS316L不銹鋼焊接，制程區(qū)由耐腐蝕的SUS316L板材組合焊接而成：（3）電氣區(qū)設(shè)置在設(shè)備后上部，與濕區(qū)和管路區(qū)完全隔離；（4）槽體材料選用耐相應(yīng)溶液腐蝕的材料；（5）機(jī)械手探人濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理。應(yīng)用領(lǐng)域集成電路、聲表面波（SAW）器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進(jìn)封裝等設(shè)備制造商華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 m.hbweixin.com 400-8768-096 ；18913575037更多全自動濕法去膠清洗機(jī)設(shè)備可以關(guān)注華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)m.hbweixin.com；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的全自動濕法去膠清洗機(jī)設(shè)備的相關(guān)方案
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金屬剝離清洗機(jī)-華林科納（江蘇）CSE微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS)是指用微機(jī)械加工技術(shù)制作的包括傳感器/微致動器/微能源/等微機(jī)械基本部分以及高性能的電子集成線路組成的微機(jī)電器件與裝置。其典型的生產(chǎn)工藝流程為：成膜工藝（氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:濺射/電鍍/摻雜：擴(kuò)散 注入 退火）→光刻圖形（旋涂/光刻/顯影）→干法/濕法/ 刻蝕（濕法刻蝕/硅刻蝕/SiO?刻蝕/去膠清洗/金屬刻蝕/金屬剝離/RCA清洗）設(shè)備名稱華林科納（江蘇）CSE-金屬剝離清洗機(jī)設(shè)備系列CSE-CX13系列設(shè)備概況尺寸(參考)：機(jī)臺尺寸 : 1750mmWx1400mmDx1900mmH（具體尺寸根據(jù)實(shí)際圖紙確定）清洗量：6寸25裝花籃2籃；重量：500Kg( 大約)；工作環(huán)境：室內(nèi)放置；主體構(gòu)造特點(diǎn)外 殼：不銹鋼304 板組合焊接而成。安全門：無安全門，采用敞開式設(shè)計；管路系統(tǒng)：藥液管路采用不銹鋼管，純水管路采用CL-PVC管；閥門：藥液管路閥門采用不銹鋼電磁閥門；排 風(fēng)：后下抽風(fēng)，動力抽風(fēng)法蘭位于機(jī)臺上部；水汽槍：配有水氣槍各2把，分置于兩側(cè)；隔板：藥液槽之間配有隔離板，防止藥液交叉污染；照明：機(jī)臺上方配照明（與工作區(qū)隔離）；機(jī)臺支腳：有滑輪裝置及固定裝置，并且有高低調(diào)整及鎖定功能。三色警示燈置于機(jī)臺上方明顯處。工作槽參數(shù)剝離洗槽槽體：不銹鋼316，有效尺寸405×220×260mm；化學(xué)藥品：剝離洗液；藥液供液：人工手動加入；工作溫度：60℃并可調(diào)；溫度可調(diào)；加熱方式：五面體貼膜加熱/投入式加熱器加入熱；液位控制：采用N2背壓數(shù)位檢測； 計時功能：工藝時間可設(shè)定，并可調(diào)，到設(shè)定時間后聲鳴提示，點(diǎn)擊按鈕后開始倒序計時；批次記憶：藥液使用次數(shù)可記憶，藥液供入時間可記憶，設(shè)定次數(shù)和設(shè)定時間到后更換藥液；排液：排液管道材質(zhì)為不銹鋼管，按鈕控制；槽蓋：配有手動槽蓋；IPA槽...