半導(dǎo)體兆聲清洗機—華林科納CSE
?Mega sonic cleaning machine
華林科納CSE-兆聲清洗機?適用于硅晶片 藍(lán)寶石晶片 砷化鎵晶片?磷化銦晶片 碳化硅晶片 石英晶片
可處理晶片尺寸2'-8'；
可處理晶圓材料：硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等；
主要應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體 太陽能光伏 液晶等
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設(shè)備名稱 | CSE-兆聲清洗機 |
類型 | 槽式 |
尺寸(參考) | 約3500（L）×1350 (W)×2300mm (H) |
清洗件規(guī)格 | 4” 2籃50片 |
設(shè)備凈重 | 1T |
運行重量 | 1.5T±10% |
電源 | 380v 50hz |
功率 | 70kw |
槽體尺寸 | 200mm*400mm*260mm |
槽數(shù) | 6個 |
操作方式 | 手動/半自動/全自動 |
適用規(guī)格 | 2英寸-8英寸 |
適用領(lǐng)域 | 半導(dǎo)體、太陽能、液晶等 ? |
設(shè)備穩(wěn)定性 | 1、清洗良品率≥99% 2、≥0.2um顆粒少于10顆 ? |
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產(chǎn)品簡介 |
1 | 設(shè)備機架采用不銹鋼骨架外包PP板，耐酸堿腐蝕； |
2 | 電氣區(qū)設(shè)置在設(shè)備后上部，與濕區(qū)和管路區(qū)完全隔離； |
3 | 槽體材料選用耐相應(yīng)溶液腐蝕的材料； |
4 | 機械手探入濕區(qū)部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理； |
5 | 設(shè)備排風(fēng)采用頂部百級FFU送新風(fēng)，臺面下抽風(fēng)，每套工藝清洗槽都有自動開閉的槽蓋，槽蓋下有單獨的抽風(fēng)裝置，排風(fēng)口處設(shè)有自動調(diào)節(jié)風(fēng)門，即上電打開風(fēng)門，斷電關(guān)閉風(fēng)門，具有風(fēng)壓檢測功能，以及氮氣、壓縮空氣壓力報警功能； |
6 | 溶液槽中藥液自動供液按設(shè)定好比例混合，并可在工作過程中根據(jù)設(shè)定補液；客戶根據(jù)自身工藝條件自行設(shè)定； |
7 | 臺面為多孔結(jié)構(gòu)，便于臺面上沖洗水、液的排出； |
8 | 操作面設(shè)有透明PVC安全門； |
9 | 設(shè)備設(shè)有漏電、急停、液位、過溫、安全門開、漏液、超時等保護(hù)和報警裝置，保證設(shè)備的安全可靠； |
10 | 配備有進(jìn)口PFA，水、氣槍各一。 |
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