目前在半導(dǎo)體工業(yè)生產(chǎn)中，普遍采用RCA清洗技術(shù)清洗拋光硅片，今天我們介紹一種溶浸式濕法化學(xué)清洗，串聯(lián)的SC1和兆聲去除顆粒，含O3的去離子水工藝形成均勻硅氧化膜，最后用IPA干燥。IPA干燥是利用IPA的低表面張力和易揮發(fā)的特性，取代硅片表面的具有較高表面張力的水分，然后用熱N2吹干，達(dá)到徹底干燥硅片水膜的目的。此種干燥工藝比傳統(tǒng)的離心式甩干法、真空干燥法、單純熱N2干燥法在降低金屬和顆粒站務(wù)的引入及干燥速度方面有較大的有事。但此工藝在有片盒干燥的過程中易產(chǎn)生邊緣目檢缺陷的缺點(diǎn)。針對(duì)這點(diǎn)，我們?cè)谏a(chǎn)中總結(jié)了一下經(jīng)驗(yàn)，并通過控制將此缺陷降到可控范圍內(nèi)。1、硅片進(jìn)入IPA干燥腔后，通過片盒支架的特殊設(shè)計(jì)，使拋光面自動(dòng)與片盒脫離接觸。這樣IPA蒸氣可充分分布到拋光面表面，有利于均勻的干燥。2、PFA片盒作為硅片的載體，由于材料微觀多孔的特性，經(jīng)過反復(fù)烘干，孔被放大，加上長(zhǎng)時(shí)間的化學(xué)溶浸，少量化學(xué)物質(zhì)吸附在PFA的孔內(nèi)，烘干后易在硅片上行程邊緣缺陷，因此定期處理PFA片盒是很必要的。作為濕制程設(shè)備專業(yè)制造商，華林科納（江蘇）半導(dǎo)體設(shè)備有限公司對(duì)IPA干燥系統(tǒng)有豐富的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和產(chǎn)線使用驗(yàn)證，為硅片的清洗、干燥提供有效的保障。 更多清洗相關(guān)設(shè)備可以關(guān)注華林科納（江蘇）半導(dǎo)體官網(wǎng)，關(guān)注http://m.hbweixin.com ,18913575037
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在半導(dǎo)體行業(yè)中，用于硅晶圓片和碳化硅晶圓片批量生產(chǎn)的外延爐的內(nèi)腔因?yàn)槟透邷?、透光、無(wú)物質(zhì)沾污的需求，基本使用高純度石英材料制作，除了石英鐘罩作為密閉腔體內(nèi)用途外，為了保證晶體表面生長(zhǎng)的氣流均勻性和溫度一致性，另外還會(huì)在腔體內(nèi)放置各種形狀的石英件。石英件的表面在一定次數(shù)的外延過程后，表面會(huì)沉積多種殘留物質(zhì)。這些殘留物質(zhì)在設(shè)備維護(hù)保養(yǎng)過程中定期清洗，否則會(huì)嚴(yán)重影響硅晶圓片和碳化硅晶圓片的外延層生長(zhǎng)質(zhì)量。華林科納是國(guó)內(nèi)最早致力于濕法設(shè)備的研制單位，多年來(lái)與眾多的半導(dǎo)體企業(yè)密切合作，研制開發(fā)適合的半導(dǎo)體清洗機(jī)設(shè)備。關(guān)于鐘罩清洗機(jī)，其中又有臥式或立式的分別。下圖是一個(gè)臥式的鐘罩清洗機(jī)。它的優(yōu)點(diǎn)是：1.成熟專業(yè)的電氣設(shè)計(jì)，友好的人機(jī)交互界面，提供更好地操作體驗(yàn)；2.極高的生產(chǎn)效率；3.結(jié)合最先進(jìn)工藝技術(shù)，主體材質(zhì)的整潔可靠，槽體的個(gè)性化定制，輔助功能齊全；4.最佳的占地面積，節(jié)省空間；5.優(yōu)越的可靠性；6.獨(dú)特的模塊化結(jié)構(gòu)；7.極其便于后期維修。它的特征是：1.可編制程序使得清洗管旋轉(zhuǎn)，清洗更均勻，更全面；2.配備的PVDF工藝槽，可耐一定濃度的酸堿；3.裝有清洗溶劑的儲(chǔ)備槽（根據(jù)使用化學(xué)品的數(shù)量）放置在工藝槽的后下方—直接注入且內(nèi)部進(jìn)行不斷循環(huán)，使得清洗更徹底；4.特別的噴淋嘴更益于石英管清洗；5.集成水槍和N2槍，以獲得更好的清洗效果，6.單獨(dú)排液系統(tǒng)，將廢棄的藥液統(tǒng)一排放到固定的容器內(nèi)，...
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在光學(xué)冷加工中，超聲波清洗是如何實(shí)現(xiàn)洗凈目的的呢？一般來(lái)說(shuō)，清洗工藝主要以干燥的方式命名，如 IPA 工藝，是指利用 IPA（異丙醇）蒸汽進(jìn)行脫水干燥的清洗工藝，純水工藝是指利用熱純水慢提拉或冷純水甩干的方式進(jìn)行干燥的清洗工藝。當(dāng)然，還有其他的命名方式。經(jīng)過不斷的變化、發(fā)展，光學(xué)冷加工中的清洗工藝主要以 IPA 工藝和純水工藝為主。 IPA干燥 IPA 工藝包括四個(gè)流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥?！ ∫?yàn)橄礈爝^程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有先進(jìn)行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進(jìn)行水基清洗；也有先進(jìn)行溶劑清洗，再用乳化劑溶解溶劑，再進(jìn)行水基清洗的。顯然，后者在流程上更流暢、緊湊，對(duì)設(shè)備要求也簡(jiǎn)單。經(jīng)過洗滌后的鏡片表面不會(huì)有結(jié)合牢固的污垢，僅可能有一些清洗劑和松散污垢的混合物?！ ∥覀冎?，無(wú)機(jī)光學(xué)玻璃是一種過冷的熔融態(tài)物質(zhì)，沒有固定的分子結(jié)構(gòu)，它的結(jié)構(gòu)式可描述為二氧化硅和某些金屬氧化物形成的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。其骨架結(jié)構(gòu)為鍵能很大的硅氧共價(jià)鍵，外圍是鍵能小、易斷裂的氧與金屬離子形成的離子鍵。在洗滌時(shí)，由于超聲場(chǎng)和化學(xué)洗劑的共同作用，某些硅氧鍵含量少或者外圍鍵能特別小的的材料易于在清洗過程中發(fā)生變化而導(dǎo)致洗滌效果不良。所以，選擇性能溫和的洗劑、合適的洗劑濃度、溫度、超聲功率、洗滌時(shí)間對(duì)保證鏡片的清洗質(zhì)量十分重要?！ ±昧魉畬⑾礈旌箸R片表面的洗劑和污物溶解、排除的過程稱為漂...
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隨著我國(guó)經(jīng)濟(jì)的不斷發(fā)展，化學(xué)包裝桶的用量 和清洗回用量一直處于增長(zhǎng)狀態(tài)，華林科納（江蘇）從管理角度我國(guó) 包裝桶的清洗和再生基本劃入危廢處理范疇早， 由于包裝桶收集、清洗、利用過程涉及化學(xué)物質(zhì)眾 多，這些化學(xué)物質(zhì)具有腐蝕性、毒性、易燃性、反 應(yīng)性，廠區(qū)安全生產(chǎn)和環(huán)境污條防治晃為重要嘰 目前，除個(gè)別包裝桶清洗企業(yè)外，大部分包裝 桶清洗再生企業(yè)均存在安全隱患和環(huán)境污染問題, 大量不規(guī)范的企業(yè)及個(gè)人收集、清洗、出售包裝 桶，造成含各種化學(xué)品的廢水被隨意排'放，一些容質(zhì)量控制及安全生產(chǎn)等眾多技術(shù)要求和規(guī) 范，從包裝桶識(shí)別、收集、分類存放、余料收集、 分別清洗、廢物處理處置，再生加工冬過程開展蔔 裝桶清潔星產(chǎn)和污染防治，實(shí)現(xiàn)包裝桶清洗行業(yè)的 源頭減排、再利用、資源化和無(wú)害化化學(xué)包裝桶清洗行業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)狀和問題.我國(guó)化學(xué)包裝桶收集、清洗和再生利用行業(yè)包 含4類企業(yè)，一類是原料和產(chǎn)品生產(chǎn)企業(yè)，產(chǎn)品相 對(duì)單一，使用包裝桶量大，回收自用同類包裝桶, 這些企業(yè)一般有較完善處理處置設(shè)施；其次是具有 危廢收集處理資質(zhì)的大、中型綜合包裝桶清洗、再 生企業(yè)，具有較完善的處理處置設(shè)施，但由于包裝 桶涉及化學(xué)物質(zhì)復(fù)雜，或多或少的存在環(huán)境問題; 第三是非法收集和清洗企業(yè)，有一定規(guī)模，具有流 動(dòng)性，隱蔽性強(qiáng)的特點(diǎn)，但部分也相對(duì)固定，沒有 水處理設(shè)施或僅有簡(jiǎn)陋的水池，一般要實(shí)施有價(jià)余 料收集；此外，非法個(gè)人收集和非法...
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近年來(lái)衍射光柵技術(shù)、全息術(shù)、傅里葉光學(xué)和計(jì)算全息等技術(shù)推動(dòng)了衍射光學(xué)理論的發(fā)展，特別是在衍射光學(xué)器件方面的研究已經(jīng)達(dá)到了實(shí)用化的水平。衍射光學(xué)器件的特點(diǎn)DOE的特點(diǎn)則是具有高衍射效率、獨(dú)特的色散性能、更多的設(shè)計(jì)自由度、寬廣的材料可選性，并具有特殊的光學(xué)性能，因此DOE成為實(shí)現(xiàn)離軸照明的理想元件。一般用于光刻系統(tǒng)離軸照明的DOE，其子單元個(gè)數(shù)需衍射的概念光沿著直線傳播，當(dāng)光穿過一個(gè)小孔或經(jīng)過一個(gè)輪廓分明的邊緣時(shí)，沿小孔邊緣產(chǎn)生了干涉圖形，結(jié)果得到了一個(gè)模糊的圖像，而不是希望出現(xiàn)在光和陰影之間的清晰邊緣，光看上去沿狹縫邊緣彎曲了。這種現(xiàn)象被稱做衍射。衍射光學(xué)器件的主要應(yīng)用1.光束整形（1）平頂光束整形“ Top-Hat ”或“ Flat-Top ”光束整形是衍射光學(xué)器件（DOE），用于將近高斯入射激光束轉(zhuǎn)換為圓形，矩形，正方形，線形或均勻強(qiáng)度（平坦）點(diǎn)或在特定工作平面中具有鋒利邊緣的其他形狀。頂帽（平頂）光束整形器的典型應(yīng)用包括：激光燒蝕，激光焊接，激光穿孔，激光劃線，醫(yī)療和美學(xué)激光應(yīng)用。（2）光束擴(kuò)散器/光束勻質(zhì)器英文名為BeamHomogenizer / Optical Diffuser，使用勻化鏡能把單模或多模的準(zhǔn)直輸入光束，轉(zhuǎn)換為能量分布高度均勻的光斑。光斑的波長(zhǎng)和形狀輪廓都可自定義，形狀一般為圓形、正方形、直線、長(zhǎng)方形、六邊形、橢圓形等任意形狀。光束均化鏡在許多需要明確定義光...
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![不懼疫情沖擊，廈門聯(lián)芯增資提產(chǎn)逆勢(shì)而上]( "不懼疫情沖擊，廈門聯(lián)芯增資提產(chǎn)逆勢(shì)而上")
新冠病毒的來(lái)臨，讓全社會(huì)嚴(yán)陣以待。全球不斷攀升的確診人數(shù)對(duì)半導(dǎo)體市場(chǎng)和供應(yīng)鏈都造成了一定壓力。然而壓力面前，具有前瞻性的企業(yè)卻不懼疫情影響，逆勢(shì)而上，增資提產(chǎn)，為今后長(zhǎng)期的發(fā)展提前做好準(zhǔn)備。這些消息釋放出來(lái)也極大地提振了全行業(yè)的士氣。形勢(shì)嚴(yán)峻新冠病毒向行業(yè)施壓2019年，全球半導(dǎo)體行業(yè)進(jìn)入下行周期，智能手機(jī)、PC、筆記本電腦等需求放緩導(dǎo)致了半導(dǎo)體市場(chǎng)的下滑。專家原本預(yù)測(cè)2020年半導(dǎo)體或?qū)⒅鼗厣仙壍溃?G的部署與AI的需求將成為推動(dòng)半導(dǎo)體行業(yè)復(fù)蘇的強(qiáng)勁動(dòng)力。然而，新型冠狀病毒肺炎疫情的突然發(fā)生，為半導(dǎo)體行業(yè)回暖帶來(lái)不確定性。集邦咨詢認(rèn)為，疫情擴(kuò)大使得未來(lái)終端需求能見度降低，尤以專注于智能手機(jī)與消費(fèi)性電子領(lǐng)域的IC設(shè)計(jì)業(yè)，2020年第二季度營(yíng)收可能受到較大影響。集邦咨詢修改了2020年第一季度智能手機(jī)生產(chǎn)總數(shù)的預(yù)估，下調(diào)至2.75億只，較去年同期衰退約12%，為近5年來(lái)新低。疫情帶來(lái)壓力的同時(shí)，也推動(dòng)人們對(duì)網(wǎng)絡(luò)通信給予更多的依賴與重視。市場(chǎng)重新評(píng)估數(shù)據(jù)中心、人工智能的價(jià)值。一大批人工智能、5G芯片企業(yè)產(chǎn)品加速落地。研究機(jī)構(gòu)預(yù)計(jì)，2020年我國(guó)人工智能市場(chǎng)將再續(xù)輝煌，市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到42.5億美元，預(yù)計(jì)年增長(zhǎng)率約為51.5%。而在5G通信方面，華為中國(guó)運(yùn)營(yíng)商業(yè)務(wù)部副總裁楊濤預(yù)測(cè)，到2023年，與5G相關(guān)的半導(dǎo)體收入將達(dá)到208億美元以上。雖然疫情的爆發(fā)帶給半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)些許沖擊，然5G與A...
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根據(jù)研究數(shù)據(jù)顯示，在大規(guī)模量產(chǎn)方面，首屈一指的當(dāng)然是日本三洋，現(xiàn)有產(chǎn)能1GW，量產(chǎn)效率達(dá)23%。除此之外，具有較成熟HIT技術(shù)的還有Keneka、Sunpreme、Solarcity、福建均石、晉能、新奧、漢能等企業(yè)。 圖表：國(guó)內(nèi)外HIT太陽(yáng)能電池產(chǎn)業(yè)化情況（單位：%，MW） 目前HIT產(chǎn)品的量產(chǎn)難點(diǎn)主要包括以下幾方面： （1）高質(zhì)量硅片：相較常規(guī)N型產(chǎn)品，HIT電池對(duì)硅片質(zhì)量有更高的要求，需要謹(jǐn)慎選擇硅片供應(yīng)商。 （2）制絨后硅片表面潔凈度的控制：HIT電池對(duì)硅片表面潔凈度要求非常高，需要平衡硅片清洗潔凈程度和相關(guān)化學(xué)品以及水的消耗。 （3）各工序Q-time控制：HIT電池在完成非晶硅鍍膜之前，對(duì)硅片暴露在空氣中的時(shí)間以及環(huán)境要求比較嚴(yán)苛，需要注意各工序Q-time的控制。 （4）生產(chǎn)連續(xù)性對(duì)于TCO鍍膜設(shè)備的影響：TCO鍍膜必須保證連續(xù)投料，否則良率和設(shè)備狀況都會(huì)受到影響，尤其在產(chǎn)線剛投產(chǎn)時(shí)，保持生產(chǎn)連續(xù)性是一大挑戰(zhàn)。 （5）高粘度漿料的連續(xù)印刷穩(wěn)定性：在HIT電池制備過程中，漿料粘度大導(dǎo)致的虛印斷柵現(xiàn)象較多，需要數(shù)倍于常規(guī)產(chǎn)線的關(guān)注。 （6）焊帶拉力的穩(wěn)定性：拉力穩(wěn)定的窗口窄，雙玻雙面發(fā)電的組件結(jié)構(gòu)進(jìn)...
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一、無(wú)源晶振與有源晶振的對(duì)比1. 無(wú)源晶振是有2個(gè)引腳的無(wú)極性元件，需要借助于時(shí)鐘電路才能產(chǎn)生振蕩信號(hào)，自身無(wú)法振蕩起來(lái)，無(wú)源晶振需要用DSP片內(nèi)的振蕩器，在datasheet上有建議的連接方法。無(wú)源晶振沒有電壓的問題，信號(hào)電平是可變的，也就是說(shuō)是根據(jù)起振電路來(lái)決定的，同樣的晶振可以適用于多種電壓，可用于多種不同時(shí)鐘信號(hào)電壓要求的DSP，而且價(jià)格通常也較低，因此對(duì)于一般的應(yīng)用如果條件許可建議用晶體，這尤其適合于產(chǎn)品線豐富批量大的生產(chǎn)者。2. 有源晶振有4只引腳，是一個(gè)完整的振蕩器，里面除了石英晶體外，還有晶體管和阻容元件 。有源晶振不需要DSP的內(nèi)部振蕩器，信號(hào)質(zhì)量好，比較穩(wěn)定，而且連接方式相對(duì)簡(jiǎn)單（主要是做好電源濾波，通常使用一個(gè)電容和電感構(gòu)成的PI型濾波網(wǎng)絡(luò)，輸出端用一個(gè)小阻值的電阻過濾信號(hào)即可），不需要復(fù)雜的配置電路。有源晶振相比于無(wú)源晶體通常體積較大，但現(xiàn)在許多有源晶振是表貼的，體積和晶體相當(dāng)，有的甚至比許多晶體還要小。二、無(wú)源晶振與有源晶振的優(yōu)缺點(diǎn)無(wú)源晶振相對(duì)于晶振而言其缺陷是信號(hào)質(zhì)量較差，通常需要精確匹配外圍電路（用于信號(hào)匹配的電容、電感、電阻等），更換不同頻率的晶體時(shí)周邊配置電路需要做相應(yīng)的調(diào)整。使用時(shí)建議采用精度較高的石英晶體，盡可能不要采用精度低的陶瓷晶體。相對(duì)于無(wú)源晶體，有源晶振的缺陷是其信號(hào)電平是固定的，需要選擇好合適輸出電平，靈活性較差，...
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簡(jiǎn)單介紹一下晶振?！笆⒕д瘛本褪怯檬⒉牧献龀傻氖⒕д裰C振器產(chǎn)生頻率的作用，具有穩(wěn)定，抗干擾性能良好，廣泛應(yīng)用于各種電子產(chǎn)品中。石英晶振是晶振中的一種，晶振的正確分類方法是石英晶振和陶瓷晶振，顯而易見石英和陶瓷就是對(duì)晶振材質(zhì)的區(qū)分。石英晶振 是一種用于穩(wěn)定頻率和選擇頻率的電子元件，已被廣泛地使用在無(wú)線電話、載波通訊、廣播電視、衛(wèi)星通訊、數(shù)字儀表、鐘表等各種電子設(shè)備中。晶體諧振器和晶體振蕩器的區(qū)別石英晶體諧振器是一種無(wú)源晶體，石英晶體振蕩器角度來(lái)說(shuō)就是有源晶振。而無(wú)源晶體和有源晶振的區(qū)別就在于，前者無(wú)電壓范圍，后者有電壓；再一個(gè)區(qū)別就在于后者的價(jià)格往往要高于前者價(jià)格的幾倍。兩個(gè)名次術(shù)語(yǔ)如同雙胞胎，僅一字之差。而正是這一字之差使得兩者的屬性參數(shù)在電路板中都有著決然不同的角色。如何正確區(qū)分石英晶體諧振器和石英晶體振蕩器簡(jiǎn)而言之即是晶體諧振器和晶體振蕩器的差別在哪里，我們先不看它的材質(zhì)。共同點(diǎn)：1、晶體諧振器和晶體振蕩器都有貼片封裝和插件封裝。2、晶體諧振器和晶體振蕩器使用范圍都一致。通信，無(wú)線，GPS隨處可見他們的身影。不同點(diǎn)：1、晶體振蕩器價(jià)格往往要比晶體諧振器價(jià)格高。2、晶體振蕩器參數(shù)有電壓?jiǎn)挝?，晶體諧振器參數(shù)不會(huì)有電壓?jiǎn)挝弧?、晶體振蕩器腳位均是4腳以上包括4腳，晶體諧振器通常是2腳或者4腳，不會(huì)存在4腳以上的晶體諧振器。4、晶體振蕩器的高度往往要高于晶體諧振器。5、...
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![【材料/設(shè)備】降低日本依賴！韓國(guó)SKC有望下半量產(chǎn)半導(dǎo)體關(guān)鍵材料]( "【材料/設(shè)備】降低日本依賴！韓國(guó)SKC有望下半量產(chǎn)半導(dǎo)體關(guān)鍵材料")
據(jù)中國(guó)臺(tái)灣媒體報(bào)道，韓國(guó)產(chǎn)業(yè)通商資源部昨（20）日宣布，韓國(guó)化學(xué)大廠SKC目前正對(duì)用于半導(dǎo)體制程的光罩基板(Mask Blank)的試作樣品展開測(cè)試，預(yù)計(jì)2020年下半年正式展開量產(chǎn)。據(jù)報(bào)導(dǎo)，韓國(guó)的半導(dǎo)體制造中，其光罩基板約90%依賴日本供應(yīng)，同時(shí)光罩基板也是韓國(guó)大量進(jìn)口自日本的20種高科技材料之一，韓國(guó)政府希望在20種主要材料、零件、設(shè)備，能脫離對(duì)日貨的倚賴，而光罩基板就名列其中。資料顯示，SKC與SK海力士同屬于SK集團(tuán)旗下，自1976年成立以來(lái)，在韓國(guó)最早開發(fā)及生產(chǎn)了不計(jì)其數(shù)的薄膜、化學(xué)、材料領(lǐng)域的產(chǎn)品，其核心部門為薄膜和化學(xué)部門。自2018年開始，SKC已投入430億韓元(約3500萬(wàn)美元)用于建設(shè)光罩基板廠，并于2019年建成，SKC不僅計(jì)劃在2020年內(nèi)開始光罩基板的量產(chǎn)，同時(shí)也計(jì)劃在2021年量產(chǎn)更高端的產(chǎn)品。2019年7月，日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省宣布，將對(duì)用于智能手機(jī)及電視機(jī)的半導(dǎo)體等制造過程中需要的三種材料加強(qiáng)對(duì)韓國(guó)的出口管制，這三種材料分別為用于半導(dǎo)體清洗的氟化氫、用于智能手機(jī)顯示屏等的氟化聚酰亞胺，以及涂覆在半導(dǎo)體基板上的感光劑“光刻膠”。對(duì)此，韓國(guó)也出臺(tái)了相關(guān)措施以應(yīng)對(duì)日本針對(duì)韓國(guó)的出口管制措施。如提出了100大核心戰(zhàn)略產(chǎn)品國(guó)產(chǎn)化計(jì)劃，將投入7.8萬(wàn)億韓元的研發(fā)費(fèi)用，在1至5年內(nèi)實(shí)現(xiàn)核心戰(zhàn)略產(chǎn)品國(guó)產(chǎn)化，而韓國(guó)企業(yè)也在加速在該領(lǐng)域的國(guó)產(chǎn)化。2019年，外媒曾報(bào)道，SK...
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