自動供液系統(tǒng)（CDS）-華林科納（江蘇）CSEChemical Dispense System System 華林科納（江蘇）半導體CSE-CDS自動供液系統(tǒng) 適用對象：HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途：本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送，經(jīng)管道至設備；具有自動化程度高，配比精確，操作簡便等特點；具有良好的耐腐蝕性能。控制模式：手動控制模式、自動控制模式設備名稱華林科納（江蘇）CSE-CDS自動供液系統(tǒng)設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(tǒng)（Chemical Dispense System System）簡稱：CDS2. CDS 將設置于化學房內(nèi)：酸堿溶液CDS 系統(tǒng)要求放置防腐性的化學房；3. 設備材質(zhì)說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構(gòu)采以WPP 10T 板材，內(nèi)部管路及組件采PFA 451 HP 材質(zhì)；4. 系統(tǒng)為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點；5. 過濾器：配有10” PFA材質(zhì)過濾器外殼；6. 供液泵：每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質(zhì)的進口隔膜泵；7. Empty Sensor & Level Sensor：酸堿類采用一般型靜電容近接開關(guān)；8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統(tǒng)設備規(guī)格 1. 系統(tǒng)主要功能概述設備主要功能：每種化學液體配兩個桶（自動切換）、配兩臺泵（一用一備）、帶過濾器；系統(tǒng)控制單元：配帶OMRON 8”彩色觸摸屏，OMRON品牌PLC系統(tǒng)；2. 操作模式： CDS 系統(tǒng)皆有PLC 作Unit 內(nèi)部流程控制，操作介面以流程方式執(zhí)行，兼具自動化與親和力。在...
設備名稱：晶棒腐蝕機---CSE產(chǎn)品描述： ●此設備自動化程度高,腐蝕清洗裝置主要由水平通過式腐蝕清洗主體(槽體部分/管路部分等),移動機械傳送裝置,CDS系統(tǒng)，抽風系統(tǒng),電控及操作臺等部分組成; ●進口優(yōu)質(zhì)透明PVC活動門（對開/推拉式），保證設備外部環(huán)境符合勞動保護的相關(guān)標準，以保證設備操作人員及其周圍工作人員的身體健康; ●機械臂定位精度高; ●整體設備腐蝕漂洗能力強,性能穩(wěn)定,安全可靠; ●設備成本合理,自動化程度高,使用成本低;技術(shù)先進,結(jié)構(gòu)合理,適宜生產(chǎn)線上大批次操作. ●非標設備，根據(jù)客戶要求具體定制，歡迎詳細咨詢！更多半導體清洗設備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（www.hlcas.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
2設備構(gòu)成及詳細技術(shù)說明2.1工藝說明 2.2.臺面結(jié)構(gòu)圖如下 3.設備說明3.1 排風系統(tǒng)?●排風裝置（排風壓力、風量根據(jù)實際情況或客戶要求設計）將設備內(nèi)揮發(fā)的有毒氣體抽到車間排風管道或戶外（室外排放遵守國家環(huán)保要求），避免擴散到室內(nèi)；?●排風通道內(nèi)設有風量導流板，從而使排風效果達到最佳；?●本體頂部后方自帶強力抽風1個風道口裝置(每個藥劑槽對應一個)，排風口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體；?●排風口處設有手動調(diào)節(jié)風門，操作人員可根據(jù)情況及時調(diào)節(jié)排風量；3.2設備防護門：?●本體前方安裝有防護隔離門，隔離門采用透明PVC板制成，前門可以輕松開合，在清洗過程中，隔離門關(guān)閉，以盡量改善工作環(huán)境并減小對人體的傷害. ?●形式:上下推拉門。3.3 給排水/廢液系統(tǒng)?●給水管路為一路去離子水；?●給排水排廢接頭均為活性連接；?●排放方式均采用氣動控制的方式來保證安全3.4 電氣控制系統(tǒng)?●采用優(yōu)質(zhì)PLC可編程控制器控制全操作過程， ?●人機界面為觸摸屏，接口中有手動操作、故障報警、安全保護等功能，各工作位過程完成提前提示報警，觸摸屏選用優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品；?●觸摸屏加鎖定，以防非授權(quán)人員修改或設定參數(shù)；?●所有電控部分需獨立封閉，帶抽風系統(tǒng)，獨立的配電柜?●設備照明：設備其它部位--低電壓燈，根據(jù)工作需要可控照明；?●設備整體采取人性化設計，方便操作；并裝有漏電保護和聲光報警提示裝置，保證性能安全可靠；電控部分導線采用耐高溫、耐腐蝕的專用導線，電氣控制部分內(nèi)部還通有壓縮空氣保護，可防水耐腐蝕；?●設備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進行保護，免受腐蝕；?●設備具有良好的接地裝置；
石英清洗機-CSE設備名稱：石英清洗機-CSE產(chǎn)品特點：·適用石英爐管、石英鐘罩、石英件等的清洗·槽體材質(zhì)為進口NPP，單槽清洗多槽清洗可選·手動、半自動、自動可選。·設備可裝配爐管旋轉(zhuǎn)裝置、內(nèi)部鼓泡及沖洗、機械手、排風系統(tǒng)、安全防護門、漏液檢測等。·根據(jù)爐管/鐘罩規(guī)格定制。更多半導體設備可以關(guān)注華林科納（江蘇）半導體設備官網(wǎng)m.hbweixin.com；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037，可立即免費獲取華林科納CSE提供的設備相關(guān)方案
RCA標準清洗法是1965年由Kern和Puotinen 等人在N.J.Princeton的RCA實驗室首創(chuàng)的，并由此而得名。RCA清洗是一種典型的、普遍使用的濕式化學清洗法，是去除硅片表面各類玷污的有效方法，所用清洗裝置大多是多槽處理式清洗系統(tǒng)。 該清洗系統(tǒng)主要包括以下幾種藥液：（1）SPM：H2SO4 /H2O2 120～150℃ SPM具有很高的氧化能力，可將金屬氧化后溶于清洗液中，并能把有機物氧化生成CO 2和H2O。用SPM清洗硅片可去除硅片表面的重有機沾污和部分金屬，但是當有機物沾污特別嚴重時會使有機物碳化而難以去除。（2）HF(DHF)：HF(DHF) 20～25℃ DHF可以去除硅片表面的自然氧化膜，因此，附著在自然氧化膜上的金屬將被溶解到清洗液中，同時DHF抑制了氧化膜的形成。因此可以很容易地去除硅片表面的Al，F(xiàn)e，Zn，Ni等金屬，DHF也可以去除附著在自然氧化膜上的金屬氫氧化物。用DHF清洗時，在自然氧化膜被腐蝕掉時，硅片表面的硅幾乎不被腐蝕。（3）APM (SC-1）：NH4OH/H2O2 /H2O 30～80℃ 由于H2O2的作用，硅片表面有一層自然氧化膜(SiO2)，呈親水性，硅片表面和粒子之間可被清洗液浸透。由于硅片表面的自然氧化層與硅片表面的Si被NH 4OH腐蝕，因此附著在硅片表面的顆粒便落入清洗液中，從而達到去除粒子的目的。在 NH4OH腐蝕硅片表面的同時，H2O 2又在氧化硅片表面形成新的氧化膜。（4）HPM (SC-2)：HCl/H2O2/H2 O 65～85℃ 用于去除硅片表面的鈉、鐵、鎂等金屬沾污。在室溫下HPM就能除去Fe和Zn。CSE清洗基本步驟：化學清洗—漂洗—烘干。硅片經(jīng)過不同工序加工后，其表面已受到嚴重沾污，一般硅片表面沾污大致可分在三類：1、有機雜質(zhì)沾污：可通過有機試劑的溶解作用，結(jié)合超聲波清洗技術(shù)來去除。...
設備概況：（僅做參考）主要功能：本設備主要手動搬運方式，通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進行處理，從而達到一個用戶要求的效果。設備名稱：KOH Etch刻蝕清洗機 設備型號：CSE-SC-NZD254整機尺寸(參考)：自動設備約2500mm（L）×1800mm(W)×2400mm(H)；被清洗硅片尺寸： 2--6寸（25片/籃）設備形式:室內(nèi)放置型;操作形式：手動各槽位主要技術(shù)工藝：設備組成：該設備主要由清洗部分、抽風系統(tǒng)及電控部分組成設備走向：方案圖按 “左進右出”方式，另可按要求設計“右進左出”方式；設備描述：此裝置是一個全自動的處理設備。8.0英寸大型觸摸屏(PROFACE/OMRON)顯示 / 檢測 / 操作每個槽前上方對應操作按鈕，與觸摸屏互相配合主體材料：德國進口10mmPP板，優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架，外包3mmPP板防腐；臺面板為德國10mm PP板；DIW管路及構(gòu)件采用日本進口clean-PVC管材，需滿足18M去離子水水質(zhì)要求，酸堿管路材質(zhì)為進口PFA/PVDF；采用國際標準生產(chǎn)加工，焊接組裝均在萬級凈化間內(nèi)完成;排風：位于機臺后上部工作照明：上方防酸照明三菱、歐姆龍 PLC控制。安全考慮：設有EMO(急停裝置)， 強電弱點隔離所有電磁閥均高于工作槽體工作液面電控箱正壓裝置（CDA Purge）設備三層防漏 樓盤傾斜 漏液報警 設備整體置于防漏托盤內(nèi)排放管路加過濾裝置所有槽體折彎成型，可有效避免死角顆粒;更多化學品相關(guān)濕法腐蝕相關(guān)設備（KOH腐蝕刻蝕機、RCA清洗機、去膠機、外延片清洗機、酸堿腐蝕機、顯影機等）以及干燥設備（馬蘭戈尼干燥機Marangoni、單腔...