?一、太陽(yáng)能電池片工藝流程：
制絨(INTEX)---擴(kuò)散（DIFF）---后清洗（刻邊/去PSG）---鍍減反射膜（PECVD）---絲網(wǎng)、燒結(jié)（PRINTER）---測(cè)試、分選（TESTER+SORTER）---包裝（PACKING）
二、我是做清洗的，今天主要跟大家分享一下清洗的工藝
電池片制造過(guò)程中，有哪些步驟用到清洗呢？
1，硅棒硅芯的清洗 ，需要用到硅棒硅芯清洗機(jī)
![全自動(dòng)硅芯硅棒清洗機(jī).JPG]( "全自動(dòng)硅芯硅棒清洗機(jī).JPG")
?圖為華林科納硅棒清洗機(jī)
2，制絨刻蝕--堿洗--酸洗 ? ? 需要用到制絨腐蝕清洗機(jī)
![太陽(yáng)能硅片制絨腐蝕清洗機(jī).jpg]( "太陽(yáng)能硅片制絨腐蝕清洗機(jī).jpg")
圖為華林科納制絨腐蝕設(shè)備
3，長(zhǎng)時(shí)間擴(kuò)散后需要對(duì)石英管進(jìn)行清洗 ? 需要石英管清洗機(jī)
![石英管清洗機(jī)_副本.jpg]( "石英管清洗機(jī)_副本.jpg")
圖為華林科納石英管清洗機(jī)
下面講一講具體的步驟
?。ㄒ唬┣扒逑?/p>
1.RENA前清洗工序的目的：
?。?） 去除硅片表面的機(jī)械損傷層（來(lái)自硅棒切割的物理?yè)p傷）
?。?） 清除表面油污（利用HF）和金屬雜質(zhì)（利用HCl）
?。?）形成起伏不平的絨面，利用陷光原理，增加對(duì)太陽(yáng)光的吸收，在某種程度上增加了PN結(jié)面積，提高短路電流（Isc），最終提高電池光電轉(zhuǎn)換效率。
2、前清洗工藝步驟： 制絨→堿洗 →酸洗→吹干
Etch bath：刻蝕槽，用于制絨。 所用溶液為HF+HNO3 ，作用：
?。?）.去除硅片表面的機(jī)械損傷層；
?。?）.形成無(wú)規(guī)則絨面。
Alkaline Rinse：堿洗槽 。 所用溶液為KOH，作用：
?。?）. 對(duì)形成的多孔硅表面進(jìn)行清洗；
?。?）.中和前道刻蝕后殘留在硅片表面的酸液。
Acidic Rinse：酸洗槽 。 所用溶液為HCl+HF，作用：
（1）.中和前道堿洗后殘留在硅片表面的堿液；
（2）.HF可去除硅片表面氧化層（SiO2），形成疏水表面，便于吹干；
?。?）.HCl中的Cl-有攜帶金屬離子的能力，可以用于去除硅片表面金屬離子。
3. 酸制絨工藝涉及的反應(yīng)方程式:
HNO3+Si=SiO2+NOx↑+H2O
SiO2+ 4HF=SiF4+2H2O
SiF4+2HF=H2[SiF6]
Si+2KOH+H2O →K2SiO3 +2H2
4. 前清洗工序工藝要求
?。?） 片子表面5S控制
不容許用手摸片子的表片，要勤換手套，避免擴(kuò)散后出現(xiàn)臟片。
?。?）稱(chēng)重
a.每批片子的腐蝕深度都要檢測(cè)，不允許編造數(shù)據(jù)，搞混批次等。
b.要求每批測(cè)量4片。
c.放測(cè)量片時(shí)，把握均衡原則。如第一批放在1.3.5.7道，下一批則放在2.4.6.8道，便于檢測(cè)設(shè)備穩(wěn)定性以及溶液的均勻性。
?。?）刻蝕槽液面的注意事項(xiàng)：
正常情況下液面均處于綠色，如果一旦在流片過(guò)程中顏色改變，立即通知工藝人員。
?。?）產(chǎn)線上沒(méi)有充足的片源時(shí)，工藝要求:
a.停機(jī)1小時(shí)以上，要將刻蝕槽的藥液排到tank，減少藥液的揮發(fā)。
b.停機(jī)15分鐘以上要用水槍沖洗堿槽噴淋及風(fēng)刀，以防酸堿形成的結(jié)晶鹽堵塞噴淋口及風(fēng)刀。
c.停機(jī)1h以上，要跑假片，至少一批（400片）且要在生產(chǎn)前半小時(shí)用水槍沖洗風(fēng)刀處的滾輪，杜絕制絨后的片子有滾輪印。
(5)前清洗到擴(kuò)散的產(chǎn)品時(shí)間:
最長(zhǎng)不能超過(guò)4小時(shí),時(shí)間過(guò)長(zhǎng)硅片會(huì)污染氧化，到擴(kuò)散污染爐管,從 而影響后面的電性能及效率
5. 前清洗工序常見(jiàn)工藝問(wèn)題
常見(jiàn)故障原因及解決方法
前清洗工藝刻蝕深度不穩(wěn)定a觀察來(lái)片是否有異常，或者來(lái)片一批中是否是不同晶棒組成，因?yàn)?/span>不同的片子會(huì)對(duì)應(yīng)不同的刻蝕速率。
b查看溶液顏色，正常的顏色應(yīng)該是灰色偏綠。如果覺(jué)得顏色過(guò)淺，流假片，一般以400片為一個(gè)循環(huán)。然后測(cè)試4片硅片刻蝕深度。
硅片表面有大面積黃斑觀察堿槽溶液是否在循環(huán)，若沒(méi)有循環(huán)，手動(dòng)打開(kāi)循環(huán)．若有循環(huán)則說(shuō)明堿濃度不夠，需要補(bǔ)加堿．硅片表面有小白條觀察氣刀是否被堵，通過(guò)查看硅片通過(guò)氣刀下方時(shí)表面液體有無(wú)被吹干判斷。
滾輪速度較低或較高a一般我們要求滾輪在1.0~1.2的速度下流片，因?yàn)檫^(guò)低的速度會(huì)影響產(chǎn)量，過(guò)高的速度風(fēng)刀很難將硅片吹干。所以如果滾輪速度小于1.0，需要手動(dòng)加液，一般按2升HF，5升HNO3進(jìn)行補(bǔ)液。同時(shí)可以將溫度提高，以1度為一個(gè)單位升高（可在5~8度之間進(jìn)行調(diào)整）。但是對(duì)于溫度的設(shè)定，我們一般選擇較低的溫度，因?yàn)檩^低的溫度下可以得到很穩(wěn)定的化學(xué)反應(yīng)，所以溫度一般不建議調(diào)高，b如果滾輪速度過(guò)高，在溫度降低仍不能滿(mǎn)足要求的情況下，可以加水，但是僅能以2升為一個(gè)單位加入。前清洗工藝堿槽或酸槽不循環(huán)觀察設(shè)備下面的循環(huán)平衡有沒(méi)有冒泡泡
原因分析：
a: 可能風(fēng)刀堵塞，使溶液跑到水槽2中；
b: 可能?chē)娏芏氯?/p>
c: 可能濾芯堵塞；
解決方法：
a:先期在初始界面處可以發(fā)現(xiàn)各自對(duì)應(yīng)的模板,在“ready”
“not ready”之間閃動(dòng)，此時(shí)需要工藝立即補(bǔ)液（HCL：HF：DI=3：2：14；KOH：DI=1：10）
b:通知設(shè)備通風(fēng)刀（冒泡泡）或清洗更換濾芯
?。ㄑa(bǔ)加了藥水后還沒(méi)循環(huán)，浮標(biāo)沉到底部不起來(lái)）
堿槽或酸槽流量變小 工藝需要檢查槽中溶液是否滿(mǎn)，如果不滿(mǎn)則添藥液；如果是滿(mǎn)的，則通知設(shè)備檢查濾芯是否需要更換或清洗。
流量突變，不能達(dá)到工藝設(shè)定流量 前清洗流量會(huì)突然變?yōu)?，此時(shí)設(shè)備會(huì)報(bào)警，工藝立即到現(xiàn)場(chǎng)通知生產(chǎn)停止投料，通知設(shè)備人員調(diào)試設(shè)備，然后處理設(shè)備中的硅片，挑出外觀未受影響的硅片繼續(xù)下傳，外觀受影響的隔離處理水紋片 用手可以抹去的，檢查出料處滾輪的干凈程度，一般是出料處風(fēng)刀中間段滾輪出現(xiàn)污染，需要設(shè)備擦拭，如果不嚴(yán)重，流假片也可以將臟東西帶走。
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