全自動(dòng)硅料清洗機(jī) ---華林科納CSE南通華林科納CSE密切跟蹤太陽能光伏行業(yè)發(fā)展，致力于“設(shè)備+工藝”的研發(fā)模式，現(xiàn)生產(chǎn)的單多晶制絨設(shè)備已經(jīng)形成了良好的客戶基礎(chǔ)和市場(chǎng)影響。生產(chǎn)工藝流程為：預(yù)清洗→制絨→擴(kuò)散→刻蝕→去PSG→PECVD→印刷→燒結(jié)太陽能電池片濕法設(shè)備主要技術(shù)特點(diǎn)：1.獨(dú)特的雙槽制絨工藝槽設(shè)計(jì)；2.分立式加熱系統(tǒng)保證溶液均勻性并降低運(yùn)營(yíng)成本；3.多通道注入結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)制絨工藝槽溶液均勻性控制；4.機(jī)械傳動(dòng)特殊設(shè)計(jì)及人性化安全保證；5.適應(yīng)性強(qiáng)的工藝過程控制。特點(diǎn)：1）主要用于對(duì)硅材料行業(yè)中多晶硅塊進(jìn)行清洗干燥處理。2）工藝流程：根據(jù)客戶需求定制，可處理腐蝕、清洗、超聲、加熱、干燥、上料 、噴淋 、酸洗、漂洗、下料等工藝；3）控制方式：手動(dòng)或自動(dòng)4）材質(zhì)：根據(jù)客戶及工藝需求選用，可選PP、PVC、PVDF、石英、不銹鋼等材質(zhì)，保證設(shè)備的耐用性；5）槽體的槽底均為傾斜漏斗式結(jié)構(gòu)，便于清洗和排渣； 6）設(shè)備設(shè)有旋轉(zhuǎn)裝置使工件達(dá)到更好的清洗效果；7）頂部設(shè)有排霧系統(tǒng)結(jié)合酸霧塔進(jìn)行廢霧、廢水處理避免污染環(huán)境；8）PLC控制人機(jī)界面操作顯示能根據(jù)實(shí)際情況更改清洗參數(shù)。更多的太陽能光伏清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（m.hbweixin.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
全自動(dòng)硅芯硅棒清洗機(jī)---CSE南通華林科納CSE密切跟蹤太陽能光伏行業(yè)發(fā)展，致力于“設(shè)備+工藝”的研發(fā)模式，現(xiàn)生產(chǎn)的單多晶制絨設(shè)備已經(jīng)形成了良好的客戶基礎(chǔ)和市場(chǎng)影響。生產(chǎn)工藝流程為：預(yù)清洗→制絨→擴(kuò)散→刻蝕→去PSG→PECVD→印刷→燒結(jié)太陽能電池片濕法設(shè)備主要技術(shù)特點(diǎn)：1.獨(dú)特的雙槽制絨工藝槽設(shè)計(jì)；2.分立式加熱系統(tǒng)保證溶液均勻性并降低運(yùn)營(yíng)成本；3.多通道注入結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)制絨工藝槽溶液均勻性控制；4.機(jī)械傳動(dòng)特殊設(shè)計(jì)及人性化安全保證；5.適應(yīng)性強(qiáng)的工藝過程控制。產(chǎn)品描述1）主要用于對(duì)硅材料行業(yè)中多晶硅塊進(jìn)行清洗干燥處理。2）工藝流程：根據(jù)客戶需求定制，可處理腐蝕、清洗、超聲、加熱、干燥、上料 、噴淋 、酸洗、漂洗、下料等工藝；3）控制方式：手動(dòng)或自動(dòng)4）材質(zhì)：根據(jù)客戶及工藝需求選用，可選PP、PVC、PVDF、石英、不銹鋼等材質(zhì)，保證設(shè)備的耐用性；5）槽體的槽底均為傾斜漏斗式結(jié)構(gòu)，便于清洗和排渣； 6）設(shè)備設(shè)有旋轉(zhuǎn)裝置使工件達(dá)到更好的清洗效果；7）頂部設(shè)有排霧系統(tǒng)結(jié)合酸霧塔進(jìn)行廢霧、廢水處理避免污染環(huán)境；8）PLC控制人機(jī)界面操作顯示能根據(jù)實(shí)際情況更改清洗參數(shù)。更多的太陽能光伏清洗設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（www.hlcas.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
![顯影清洗機(jī)-CSE]( "顯影清洗機(jī)-CSE")
顯影清洗機(jī)CSE-南通華林科納微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS)是指用微機(jī)械加工技術(shù)制作的包括傳感器/微致動(dòng)器/微能源/等微機(jī)械基本部分以及高性能的電子集成線路組成的微機(jī)電器件與裝置。其典型的生產(chǎn)工藝流程為：成膜工藝（氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:濺射/電鍍/摻雜：擴(kuò)散 注入 退火）→光刻圖形（旋涂/光刻/顯影）→干法/濕法/ 刻蝕（濕法刻蝕/硅刻蝕/SiO?刻蝕/去膠清洗/金屬刻蝕/金屬剝離/RCA清洗）設(shè)備概述設(shè)備名稱：顯影清洗機(jī)整機(jī)尺寸：約1000mm(L) ×1260mm(W) ×1900mm(H)（具體尺寸根據(jù)實(shí)際圖紙確定）主體構(gòu)造特點(diǎn)設(shè)備包括設(shè)備主體、電氣控制部分、顯影清洗槽等；并提供與廠務(wù)供電、供氣、供水、排廢水、排氣系統(tǒng)配套的接口等主體設(shè)備主體使用德國(guó)勞士林10mm瓷白PP骨架SUS304+PP德國(guó)勞士領(lǐng)板組合而成安全門設(shè)備安裝高透明PVC上下推拉安全門，分隔與保護(hù)人員安全；邊緣處設(shè)備密封條臺(tái)面高度約900mm，適合高于1.5米人群操作工藝槽模組化設(shè)計(jì)，放置在同一個(gè)承漏底盤中。底盤采用滿焊接工藝加工而成，杜絕機(jī)臺(tái)的滲漏危險(xiǎn)。管路系統(tǒng)位于設(shè)備下部，所有工藝槽、管路、閥門部分均有清晰的標(biāo)簽注明；藥液管路采用勞士林PP管，純水管路采用積水CL-PVC管，廢液可通過專用管道排放電氣保護(hù)電器控制、氣路控制和工藝槽控制部份在機(jī)臺(tái)頂部電控區(qū)，電氣元件有充分的防護(hù)以免腐蝕以保障設(shè)備性能運(yùn)行穩(wěn)定可靠。工作照明上方防酸型照明220V 40W 可更換水氣槍機(jī)臺(tái)前部配備有PP純水槍和PP CDA槍各一只置左右兩側(cè)，水槍滴漏活水設(shè)計(jì)，方便操作員手工清洗槽體或工件機(jī)臺(tái)支腳有滑輪裝置及固定裝置并加防腐座，并且有高低調(diào)整及鎖定功能安全保障完善的報(bào)警和保護(hù)設(shè)計(jì)，排風(fēng)壓力、液位、排液均有硬件或軟件互鎖，直觀的操作界面，清晰的信息提示，保障了生產(chǎn)、工藝控制和安全性三色警示...
全自動(dòng)制絨清洗機(jī)設(shè)備--CSE南通華林科納CSE密切跟蹤太陽能光伏行業(yè)發(fā)展，致力于“設(shè)備+工藝”的研發(fā)模式，現(xiàn)生產(chǎn)的單多晶制絨設(shè)備已經(jīng)形成了良好的客戶基礎(chǔ)和市場(chǎng)影響。生產(chǎn)工藝流程為：預(yù)清洗→制絨→擴(kuò)散→刻蝕→去PSG→PECVD→印刷→燒結(jié)太陽能電池片濕法設(shè)備主要技術(shù)特點(diǎn)：1.獨(dú)特的雙槽制絨工藝槽設(shè)計(jì)；2.分立式加熱系統(tǒng)保證溶液均勻性并降低運(yùn)營(yíng)成本；3.多通道注入結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)制絨工藝槽溶液均勻性控制；4.機(jī)械傳動(dòng)特殊設(shè)計(jì)及人性化安全保證；5.適應(yīng)性強(qiáng)的工藝過程控制。產(chǎn)品描述1）主要用于對(duì)硅材料行業(yè)中多晶硅塊進(jìn)行清洗干燥處理。2）工藝流程：根據(jù)客戶需求定制，可處理腐蝕、清洗、超聲、加熱、干燥、上料 、噴淋 、酸洗、漂洗、下料等工藝；3）控制方式：手動(dòng)或自動(dòng)4）材質(zhì)：根據(jù)客戶及工藝需求選用，可選PP、PVC、PVDF、石英、不銹鋼等材質(zhì)，保證設(shè)備的耐用性；5）槽體的槽底均為傾斜漏斗式結(jié)構(gòu)，便于清洗和排渣； 6）設(shè)備設(shè)有旋轉(zhuǎn)裝置使工件達(dá)到更好的清洗效果；7）頂部設(shè)有排霧系統(tǒng)結(jié)合酸霧塔進(jìn)行廢霧、廢水處理避免污染環(huán)境；8）PLC控制人機(jī)界面操作顯示能根據(jù)實(shí)際情況更改清洗參數(shù)。更多的太陽能單晶多晶硅片制絨腐蝕清洗機(jī)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（www.hlcas.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
晶圓清洗機(jī)設(shè)備名稱：晶圓清洗機(jī)-CSE產(chǎn)品特點(diǎn)：? 針對(duì)21英寸外徑或15x15英寸的基底? 巨聲環(huán)境清洗艙（可配備去離子水, 清洗刷, 熱去離子水, 高壓去離子水, 熱氮?dú)猓? 化學(xué)注射臂? 帶化學(xué)噴射的可變速清洗刷? 觸屏用戶界面? 手動(dòng)上下載? 安全鎖和報(bào)警器? 占地尺寸30”D x 26”W 可選配項(xiàng)：? 化學(xué)試劑傳送單元? 白骨化清洗? 臭氧發(fā)生器? 氫化雙氧水發(fā)生器? 高壓雙氧單元? 硫酸氫過氧化物? 紅外加熱? 雙氧水循環(huán)裝置? 機(jī)械手上下載單元? 帶EFEM和SMIF界面的 集群系統(tǒng)清洗功能? 晶圓片? 藍(lán)寶石外延片? 晶圓框架上的芯片? 顯示面板? ITO膜顯示材料? 有圖形掩膜和無圖形掩膜? 掩膜坯料? 薄膜式掩膜? 接觸式掩膜光刻處理工藝? SPM剝離? 光刻膠涂膜? 光刻膠剝離工藝刻蝕? 金屬刻蝕（鋁，銅，鉻，鈦）白骨化清洗? 在晶圓片上注射硫酸和雙氧水的混合液? 紅外加熱? 刷洗? 兆聲雙氧水清洗? 熱氮和甩干去膠/剝離工藝? 帶紅外加熱的NMP滴膠? 刷洗? 兆聲雙氧水清洗? 熱氮和甩干CMP溶液清洗? 用刷洗和兆聲清洗去除CMP顆粒? 化學(xué)噴射臂? 化學(xué)噴射罐? 為前面和背面刷洗設(shè)計(jì)的特殊托盤? 可調(diào)速的PVA清洗刷? 可調(diào)的清洗刷/晶圓接觸壓力? 刷式化學(xué)噴射帶膜/不帶膜式掩膜清洗? 全套清洗（無需更換保護(hù)膜）? 全保護(hù)膜? 膜式掩膜清洗工藝 1) 掩膜背面清洗后 兆聲雙氧水清洗 刷式清洗 化學(xué)清洗 熱氮甩干 2)熱氮甩干更多半導(dǎo)體設(shè)備可以關(guān)注南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)m.hbweixin.com；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的設(shè)備相關(guān)方案
無機(jī)清洗機(jī)?設(shè)備名稱：無機(jī)清洗機(jī)?設(shè)備型號(hào)：CSE-JR11-WJ04?整機(jī)尺寸(參考)：約2000mmL×1400mmW×2000mmH；?硅片尺寸：2寸～6寸?工作環(huán)境：室內(nèi)放置；?操作形式：手動(dòng)?重量：650Kg( 大約)；蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司由中國(guó)科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所合資成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、太陽能光伏設(shè)備、液晶濕制程設(shè)備、真空設(shè)備的研發(fā)、技術(shù)推廣和生產(chǎn)銷售。
![硅片清洗機(jī)--華林科納CSE]( "硅片清洗機(jī)--華林科納CSE")
硅片濕法清洗技術(shù)與設(shè)備---華林科納CSE硅片制造過程中，在進(jìn)行下一步工藝前要獲得 一個(gè)潔凈的表面，以保證后道工藝能再一個(gè)完全潔 凈的表面上進(jìn)行，這就需要對(duì)硅片進(jìn)行清洗。清洗是硅片制造過程中重復(fù)次數(shù)最多的工藝。目前，在 清洗工藝中使用最多的就是濕法清洗技術(shù)，華林科納半導(dǎo)體設(shè)備公司的硅片濕法腐蝕清洗機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)得到了很多客戶的認(rèn)可.1 硅片濕法清洗的種類1.1 刷洗刷洗是去除硅片表面顆粒的一種直接而有效的方法，該清洗技術(shù)一般用在切割或拋光后的硅片清洗上，可高效地清除拋光后產(chǎn)生的大量顆粒。刷洗一般有單面或雙面兩種模式，雙面模式可同時(shí)清洗硅片的兩面。刷洗有時(shí)也與超聲及去離子水或化學(xué)液一起配合使用，以達(dá)到更好的清洗效果和更高的清洗效率。1.2 化學(xué)清洗1.2.1 RCA 清洗20 世紀(jì) 60 年代，由美國(guó)無線電公司（RCA）研發(fā)了用于硅片清洗的 RCA 清洗技術(shù)，這種技術(shù)成為后來各種化學(xué)清洗技術(shù)的基礎(chǔ)，現(xiàn)在大多數(shù)工廠所使用的清洗技術(shù)都是基于最初的 RCA 清洗法。RCA 清洗是按照一定的順序依次浸入兩種標(biāo)準(zhǔn)清洗液(SC-1 和 SC-2)中來完成，這兩種清洗液的使用溫度一般在 80 ℃以內(nèi)，有時(shí)也需要將溶液冷卻到室溫以下。1.2.2 改進(jìn)的 RCA 清洗RCA 清洗一般都需要在高溫下進(jìn)行，并且化學(xué)液的濃度很高，這樣就造成大量消耗化學(xué)液和去離子水的問題。目前，很少有人還按照最初的 RCA化學(xué)液配比進(jìn)行濕法清洗。在 RCA 清洗的基礎(chǔ)上，采用稀釋化學(xué)法，將SC-1、SC-2 稀釋到 100 倍以上，也可以達(dá)到甚至超過最初的 RCA 清洗效果。改進(jìn)的 RCA 清洗方法最大的好處是減少了化學(xué)液的消耗，可使化學(xué)液的消耗量減少 85﹪以上。另外，附加兆聲或超聲能量后，可大大降低溶液的使用溫度和反應(yīng)時(shí)間，提高溶液的使用壽命，大幅度降低了生產(chǎn)成本，同時(shí)，低濃度化學(xué)液對(duì)人體健康和安全方面...
晶片清洗機(jī)設(shè)備名稱:晶片清洗機(jī)-華林科納CSE清洗對(duì)象:本設(shè)備適用于2″~8″晶片清洗。 ⑴超聲清洗,加熱清洗為單槽定時(shí)控制,到時(shí)給予結(jié)束提示音。⑵工藝過程:上料→支離子水超聲清洗→去離子水加熱清洗→去離子水沖洗→ 下 料 本設(shè)備為柜體式,操作面帶有透明門窗。⑴槽體材料為德國(guó)進(jìn)口聚丙烯(磁白色PP板),焊口采用SS外包5mm厚德國(guó)磁白色PP板,外型美觀實(shí)用。 ⑵設(shè)備超聲,加熱清洗時(shí)間由定時(shí)器控制。 ⑶加熱槽裝有溫控表(pompon)和傳感器。 ⑷每個(gè)清洗槽互不影響,超聲、沖洗清洗槽的上給水(沖洗清洗槽配有熱水)、下排水為手動(dòng)方式。 ⑸配有可調(diào)節(jié)式的排風(fēng)裝置。 ⑹配有美國(guó)進(jìn)口氮?dú)鈬姌尅?#160;⑺電控部分采用密封保護(hù)方式配有緊急停機(jī)及報(bào)警裝置。更多半導(dǎo)體設(shè)備可以關(guān)注南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)m.hbweixin.com；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的設(shè)備相關(guān)方案
太陽能硅片制絨腐蝕清洗機(jī)-CSE在光伏發(fā)電領(lǐng)域，由于多晶硅電池片成本較低，其 市 場(chǎng) 占有率已躍居首位，但相對(duì)于單晶硅電池片而言仍存在著反 射率較高、電池效率不足的缺陷。為縮小多晶硅太陽能電池 片與單晶硅太陽能電池片之間的差距，采用織構(gòu)化多晶硅表 面的方法提高多晶硅片吸光能力是一條行之有效的途徑。目前，多晶硅表面織構(gòu)化的方法主要有機(jī)械刻槽、激光刻槽、反應(yīng)離子體蝕刻、酸腐蝕制絨等，其中各 向同性酸腐制絨技術(shù)的工藝簡(jiǎn)單，可以較容易地整合到多晶 硅太陽能電池的生產(chǎn)工序中，同時(shí)成 本 最 低，因 而 在 大 規(guī) 模 的工業(yè)生產(chǎn)中得到了廣泛的應(yīng)用。更多的太陽能硅片制絨腐蝕清洗機(jī)設(shè)備相關(guān)資訊可以關(guān)注華林科納CSE官網(wǎng)（m.hbweixin.com），現(xiàn)在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費(fèi)的半導(dǎo)體清洗解決方案。
![RCA濕法腐蝕清洗機(jī)設(shè)備-CSE]( "RCA濕法腐蝕清洗機(jī)設(shè)備-CSE")
RCA濕法腐蝕清洗機(jī)設(shè)備——華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設(shè)備是國(guó)內(nèi)最早致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位，多年來與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作，研制開發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動(dòng)系列濕法處理設(shè)備設(shè) 備 名 稱南通華林科納CSE-RCA濕法腐蝕清洗機(jī)使 用 對(duì) 象硅晶片2-12inch適 用 領(lǐng) 域半導(dǎo)體、太陽能、液晶、MEMS等設(shè) 備 用 途硅晶片化學(xué)腐蝕和清洗的設(shè)備主體構(gòu)造特點(diǎn)1. 設(shè)備包括：設(shè)備主體、電氣控制部分、化學(xué)工藝槽、純水清洗槽等；并提供與廠務(wù)供電、供氣、供水、排廢水、排氣系統(tǒng)配套的接口等。2.設(shè)備為半敞開式，主體使用進(jìn)口WPP15和10mm厚板材，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)充分考慮長(zhǎng)期工作在酸腐蝕環(huán)境，堅(jiān)固耐用，雙層防漏，機(jī)臺(tái)底盤采用德國(guó)產(chǎn)瓷白PP板，熱焊接而成，可長(zhǎng)期工作在酸堿腐蝕環(huán)境中3.主體：設(shè)備為半敞開式，主體使用進(jìn)口WPP15和10mm厚板材，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)充分考慮長(zhǎng)期工作在酸腐蝕環(huán)境，堅(jiān)固耐用，雙層防漏，機(jī)臺(tái)底盤采用德國(guó)產(chǎn)瓷白PP板，熱焊接而成，可長(zhǎng)期工作在酸堿腐蝕環(huán)境中；4.骨 架：鋼骨架+PP德國(guó)勞施領(lǐng)板組合而成，防止外殼銹蝕。5.儲(chǔ)物區(qū)：位于工作臺(tái)面左側(cè)，約280mm寬，儲(chǔ)物區(qū)地板有漏液孔和底部支撐；6.安全門：前側(cè)下開透明安全門，腳踏控制；7.工藝槽：模組化設(shè)計(jì)，腐蝕槽、純水沖洗槽放置在一個(gè)統(tǒng)一的承漏底盤中。底盤采用滿焊接工藝加工而成，杜絕機(jī)臺(tái)的滲漏危險(xiǎn)；8.管路系統(tǒng)：位于設(shè)備下部，所有工藝槽、管路、閥門部分均有清晰的標(biāo)簽注明；藥液管路采用PFA管，純水管路采用白色NPP噴淋管，化學(xué)腐蝕槽廢液、沖洗廢水通過專用管道排放；9.電氣保護(hù)：電器控制、氣路控制和工藝槽控制部份在機(jī)臺(tái)頂部電控區(qū)，電氣元件有充分的防護(hù)以免酸霧腐蝕以保障設(shè)備性能運(yùn)行穩(wěn)定可靠；所有可能與酸霧接觸的...
紅外器件清洗機(jī)設(shè)備名稱：紅外器件清洗機(jī)-CSE產(chǎn)品特點(diǎn)：設(shè)備由預(yù)洗槽、超聲波清洗槽、漂洗槽、超聲波電源柜等組成。清洗槽材質(zhì)為不銹鋼，經(jīng)久耐用。預(yù)洗槽底部設(shè)置了壓力噴嘴，使浸泡過程中靜止的液體變?yōu)榱鲃?dòng)的液體，上下翻滾，形成湍流，有效去除散熱片狹縫中的污物。超聲波清洗槽底部、側(cè)面均設(shè)置了換能器，使被清洗的工件表面得到均勻的聲強(qiáng)。在超聲作用下，采用水劑代替煤油或有機(jī)溶劑進(jìn)行清洗，可顯著降低清洗成本。更多半導(dǎo)體設(shè)備可以關(guān)注南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)m.hbweixin.com；現(xiàn)在咨詢400-8768-096，18913575037，可立即免費(fèi)獲取華林科納CSE提供的設(shè)備相關(guān)方案
![溝槽腐蝕機(jī)]( "溝槽腐蝕機(jī)")
溝槽腐蝕機(jī)-CSE概述1.1 設(shè)備概況：主要功能：本設(shè)備主要手動(dòng)搬運(yùn)方式，通過對(duì)si片腐蝕、漂洗、等方式進(jìn)行處理，從而達(dá)到一個(gè)用戶要求的效果。1.1.1 設(shè)備名稱：溝槽腐蝕機(jī)1.1.2 設(shè)備型號(hào)：CSE-SC-N6011.1.3 整機(jī)尺寸(參考)：約2000mm（L）×1400mm(W)×2000mm(H)；1.1.4 被清洗硅片尺寸：5寸/6寸1.1.5 設(shè)備形式:室內(nèi)放置型;1.1.6 操作形式：手動(dòng)1.2 設(shè)備組成該設(shè)備主要由清洗部分、抽風(fēng)系統(tǒng)及電控部分組成設(shè)備工藝走向：參照本方案臺(tái)面布局圖1.3 設(shè)備描述●此裝置是一個(gè)半自動(dòng)的處理設(shè)備。●8.0英寸PROFACE 人機(jī)界面顯示 / 檢測(cè) / 操作●主體材料：10mmPP板，優(yōu)質(zhì)不銹鋼骨架，外包3mmPP板防腐；●化學(xué)槽槽體材料：德國(guó)勞士領(lǐng) 10mm PVDF板；●純水槽槽體材料：德國(guó)勞士領(lǐng) 10mm NPP板；●臺(tái)面板為10mm PP板（帶有菱形漏液孔）；●DIW主管路及構(gòu)件采用日本進(jìn)口clean-PVC管材，支管路及閥件采用PFA材質(zhì)，需滿足18M去離子水水質(zhì)要求；酸 堿管路材質(zhì)為進(jìn)口PFA/PVDF；●采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)加工，焊接組裝均在萬級(jí)凈化間內(nèi)完成●排風(fēng)：位于機(jī)臺(tái)后下部●工作照明：上方防酸型白光照明●歐姆龍/三菱 PLC控制?！癜踩紤]：1. 設(shè)有EMO(急停裝置)， 2. 強(qiáng)電弱點(diǎn)隔離3. 所有電磁閥均高于工作槽體工作液面4. 電控箱正壓裝置（CDA Purge）5. 設(shè)備三層防漏 樓盤傾斜 漏液報(bào)警 設(shè)備整體置于防漏托盤內(nèi)6. 排放管路加過濾裝置7 排液按鈕具有連鎖功能。啟動(dòng)排液時(shí)，同時(shí)切斷泵啟動(dòng)。8 槽內(nèi)配液位開關(guān)，無液不循環(huán)。更多半導(dǎo)體設(shè)備可以關(guān)注南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備官網(wǎng)m.hbweixin.com；現(xiàn)在咨...